特許
J-GLOBAL ID：201103067200540051

官能基の測定方法

発明者：
鷹林 将

鷹林 将 について

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坂上 弘之

坂上 弘之 について

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高萩 隆行

高萩 隆行 について

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岡本 圭司

岡本 圭司 について

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中谷 達行

中谷 達行 について


出願人/特許権者：
国立大学法人広島大学

国立大学法人広島大学 について

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トーヨーエイテック株式会社

トーヨーエイテック株式会社 について


代理人 (10件)： 前田 弘 ,  竹内 宏 ,  嶋田 高久 ,  竹内 祐二 ,  今江 克実 ,  二宮 克也 ,  原田 智雄 ,  井関 勝守 ,  関 啓 ,  杉浦 靖也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-221097
公開番号（公開出願番号）：特開2011-069725
出願日： 2009年09月25日
公開日（公表日）： 2011年04月07日
要約：
【課題】複雑な波形分離を用いることなく、固体材料の表面に存在する官能基をより幅広く且つより正確に測定できるようにする。【解決手段】官能基の測定する方法は、炭素質膜からなる複数の評価用試料を準備する工程(a)と、各官能基に対する反応率をあらかじめ測定した複数の標識試薬を準備する工程(b)と、評価用試料と標識試薬とをそれぞれ反応させる工程(b)と、工程(b)よりも後に、評価用試料のそれぞれについてその表面に導入された標識試薬の導入量をX線光電子分光測定法により測定する工程(c)と、炭素質膜の表面に存在する各官能基の量を、G=R-1Qに基づいて算出する工程(d)とを備えている。但し、Gは各官能基の量を示す行列であり、Rは各標識試薬の各官能基に対する反応率を示す行列であり、Qは各標識試薬の導入量を示す行列である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
固体材料の表面に存在する複数の官能基の量を測定する方法であって、 前記固体材料からなる複数の評価用試料を準備する工程(a)と、 前記各官能基に対する反応率をあらかじめ測定した複数の標識試薬を準備する工程(b)と、 前記評価用試料と前記標識試薬とをそれぞれ反応させる工程(b)と、 前記工程(b)よりも後に、前記評価用試料のそれぞれについてその表面に導入された前記標識試薬の導入量をX線光電子分光測定法により測定する工程(c)と、 前記固体材料の表面に存在する前記各官能基の量を、以下の式に基づいて算出する工程(d)とを備えていることを特徴とする官能基の測定方法。 G=R-1Q 但し、
IPC (2件)：
G01N 23/227 ,  G01N 1/30
FI (2件)：
G01N23/227 ,  G01N1/30
Fターム (23件)：
2G001AA01 ,  2G001BA08 ,  2G001CA03 ,  2G001GA07 ,  2G001GA13 ,  2G001KA01 ,  2G001KA13 ,  2G001LA20 ,  2G001MA05 ,  2G001NA03 ,  2G001NA04 ,  2G001NA05 ,  2G001NA08 ,  2G001NA17 ,  2G001RA02 ,  2G001RA20 ,  2G052AA14 ,  2G052AA18 ,  2G052AB11 ,  2G052AD32 ,  2G052FA09 ,  2G052FD06 ,  2G052GA19
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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