特許
J-GLOBAL ID：200903052653633942

ダイヤモンド様薄膜の修飾方法及び超親水性材料、医療用材料、医療用器具とその製造方法

発明者：
中谷 達行

中谷 達行 について

, 
岡本 圭司

岡本 圭司 について


出願人/特許権者：
トーヨーエイテック株式会社

トーヨーエイテック株式会社 について


代理人 (11件)： 前田 弘 ,  竹内 宏 ,  嶋田 高久 ,  竹内 祐二 ,  今江 克実 ,  藤田 篤史 ,  二宮 克也 ,  原田 智雄 ,  井関 勝守 ,  関 啓 ,  杉浦 靖也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-070884
公開番号（公開出願番号）：特開2008-230880
出願日： 2007年03月19日
公開日（公表日）： 2008年10月02日
要約：
【課題】DLC膜の親水性を向上させると共に、生体適合性等の機能の付与を効率良く行うことが可能なDLC膜の修飾方法を実現できるようにする。【解決手段】DLC膜の修飾方法は、基材の表面にダイヤモンド様薄膜を形成する工程と、ダイヤモンド様薄膜に第1のプラズマを照射することにより反応性の部位をダイヤモンド様薄膜の表面に生起させる工程と、ダイヤモンド様薄膜に少なくとも酸素を含む第2のプラズマを照射することにより反応性の部位と酸素とを反応させることにより親水性の官能基を導入する工程とを備えている。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
基材の表面にダイヤモンド様薄膜を形成する工程(a)と、 前記ダイヤモンド様薄膜に第1のプラズマを照射することにより反応性の部位を前記ダイヤモンド様薄膜の表面に生起させる工程(b)と、 前記ダイヤモンド様薄膜に少なくとも酸素を含む第2のプラズマを照射することにより前記反応性の部位と酸素とを反応させて親水性の官能基を導入する工程(c)とを備えていることを特徴とするダイヤモンド様薄膜の修飾方法。
IPC (8件)：
C01B 31/02 ,  A61B 17/321 ,  A61F 2/02 ,  A61M 25/00 ,  A61N 1/05 ,  A61L 29/00 ,  A61L 31/00 ,  A61B 5/154
FI (12件)：
C01B31/02 101Z ,  A61B17/32 310 ,  A61F2/02 ,  A61M25/00 410B ,  A61N1/05 ,  A61L29/00 Q ,  A61L31/00 P ,  A61L29/00 W ,  A61L29/00 T ,  A61L31/00 T ,  A61B5/14 300E ,  A61M25/00 304
Fターム (79件)：
4C038TA01 ,  4C038UA10 ,  4C053CC02 ,  4C060FF03 ,  4C081AC03 ,  4C081AC08 ,  4C081AC09 ,  4C081AC14 ,  4C081BB05 ,  4C081BB08 ,  4C081CA162 ,  4C081CA172 ,  4C081CA242 ,  4C081CD032 ,  4C081CD082 ,  4C081CD092 ,  4C081CD122 ,  4C081CD152 ,  4C081EA06 ,  4C097AA01 ,  4C097BB01 ,  4C097CC01 ,  4C097CC03 ,  4C097DD01 ,  4C097DD06 ,  4C097DD09 ,  4C097DD12 ,  4C097DD14 ,  4C097EE02 ,  4C097EE03 ,  4C097EE06 ,  4C097EE09 ,  4C097EE11 ,  4C097EE16 ,  4C097FF01 ,  4C097MM04 ,  4C097MM08 ,  4C167AA01 ,  4C167AA06 ,  4C167AA28 ,  4C167AA46 ,  4C167AA50 ,  4C167AA74 ,  4C167BB06 ,  4C167BB26 ,  4C167BB42 ,  4C167BB45 ,  4C167BB46 ,  4C167CC04 ,  4C167EE07 ,  4C167FF01 ,  4C167FF03 ,  4C167FF05 ,  4C167GG04 ,  4C167GG05 ,  4C167GG06 ,  4C167GG07 ,  4C167GG12 ,  4C167GG16 ,  4C167GG21 ,  4C167GG26 ,  4C167GG42 ,  4C167GG43 ,  4C167HH02 ,  4C167HH08 ,  4C167HH16 ,  4G146AA05 ,  4G146AB07 ,  4G146AC16B ,  4G146AD40 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BC16 ,  4G146BC22 ,  4G146BC26 ,  4G146CB13 ,  4G146CB16 ,  4G146CB35 ,  4G146DA16
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 人工心臓の抗血栓処理
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-059506   出願人：株式会社サンメディカル技術研究所, セイコーエプソン株式会社
  • 国際公開第2005/97673号パンフレット
審査官引用 (11件)
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