特許
J-GLOBAL ID：201103068486902580
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
西川 惠清
, 森 厚夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-303116
公開番号（公開出願番号）：特開2001-006897
特許番号：特許第4164967号
出願日： 1999年10月25日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 片側が吹き出し口として開放された筒状の反応管と一対の電極とを具備して構成され、該反応管にプラズマ生成用ガスを導入し、電極の間に交流電界を印加することにより、大気圧下で反応管内にグロー状の放電を発生させ、反応管の吹き出し口からジェット状のプラズマを吹き出して、流出するプラズマにて被処理物をプラズマ処理するプラズマ処理装置において、反応管の外側に一対の環状の電極をプラズマ生成用ガスの導入方向と略平行方向において互いに対向させて設け、この一対の電極の間隔を3〜20mmにし、上記一対の電極の間に形成される反応管内の放電空間の体積を減少させるための体積減少具を反応管内に設けて成ることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H05H 1/30 ( 200 6.01)
, B23K 10/00 ( 200 6.01)
, H01L 21/302 ( 200 6.01)
H05H 1/30
, B23K 10/00 504
, H01L 21/302
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (9件)
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