投影露光装置およびデバイス製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：近島一夫 , 阪本善朗
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-255071
公開番号（公開出願番号）：特開2001-077012
特許番号：特許第4434372号
出願日： 1999年09月09日
公開日（公表日）： 2001年03月23日
請求項（抜粋）：

【請求項1】投影光学系を有し、基板の各ショットを前記投影光学系に対してその光軸に垂直な方向においてアライメントし、アライメントされた前記各ショットに原版のパターンを前記投影光学系により投影して前記各ショットを露光する投影露光装置において、ショットに形成されたアライメントマークを検出するアライメント検出器と、一部のショットそれぞれに対して前記アライメント検出器の検出結果により求められたアライメントマークの位置に基づいて各ショットの位置を推定する制御手段と、前記アライメントマーク近傍の面の傾きの情報を得るフォーカス検出系と、前記アライメントマークを形成するために露光されたときの当該アライメントマーク近傍の面の傾きを記憶する記憶手段と、を有し、前記制御手段は、前記各ショットの位置の推定に先立って、前記フォーカス検出系により求められた前記傾きと前記記憶手段に記憶された前記傾きとの差分に基づいて、前記一部のショットそれぞれに対して求められた前記アライメントマークの位置を補正する、ことを特徴とする投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) , G03F 7/22 ( 200 6.01) , G03F 9/02 ( 200 6.01) , H01L 21/68 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01L 21/30 525 W , G03F 7/22 H , G03F 9/02 H , H01L 21/68 F

引用特許：

出願人引用 (8件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-226868 出願人：株式会社ニコン
特開平1-161832
焦点検出手段を有したアライメントスコープ
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-027133 出願人：キヤノン株式会社

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審査官引用 (8件)

露光方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-322131 出願人：株式会社ニコン
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-226868 出願人：株式会社ニコン
特開平1-161832

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