特許
J-GLOBAL ID：201103070045950265
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-374097
公開番号（公開出願番号）：特開2003-170182
特許番号：特許第4212804号
出願日： 2001年12月07日
公開日（公表日）： 2003年06月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 処理液により基板を処理する基板処理装置であって、
基板処理により生じた排液を排出する排出路と、
前記排出路中の排液に含まれる有機溶剤を分解する分解剤を前記排出路に供給する分解剤供給手段と、
分解剤による有機溶剤の分解能力を維持または促進する分解補助剤を前記排出路に供給する分解補助剤供給手段と、
前記有機溶剤を含む排液が前記排出路に流れる期間とほぼ同期間、前記分解剤供給手段により分解剤を前記排出路に供給させるとともに、前記分解補助剤供給手段により分解補助剤を前記排出路に供給させる制御手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
C02F 1/78 ( 200 6.01)
, G02F 1/13 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
C02F 1/78
, G02F 1/13 101
, H01L 21/304 651 H
