特許
J-GLOBAL ID:201103070401591062

シート基材に結晶性化合物薄膜を形成する方法およびそのための装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-287331
公開番号(公開出願番号):特開2003-096556
特許番号:特許第4082008号
出願日: 2001年09月20日
公開日(公表日): 2003年04月03日
請求項(抜粋):
【請求項1】 連続的に搬送されるプラスチックシート基材に、真空下あるいは低ガス圧雰囲気下でTiの酸化物を主成分として含むアモルファスまたは低結晶性薄膜を形成する第1の工程、水素を2〜5%含む不活性気体雰囲気下において、薄膜が形成された前記プラスチックシート基材を、50°C以上で300°C以下である温度に維持しながら、前記第1の工程で形成された薄膜に、光の波長が薄膜の膜厚の3倍以下である紫外光ランプからの光を照射する第2の工程を有する、プラスチックシート基材に結晶性薄膜を形成する方法。
IPC (4件):
C23C 14/08 ( 200 6.01) ,  C23C 14/58 ( 200 6.01) ,  B01J 35/02 ( 200 6.01) ,  H01L 21/20 ( 200 6.01)
FI (4件):
C23C 14/08 E ,  C23C 14/58 C ,  B01J 35/02 J ,  H01L 21/20
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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引用文献:
出願人引用 (1件)
  • PbTiO3薄膜のレ-ザ-アニ-ル
審査官引用 (1件)
  • PbTiO3薄膜のレ-ザ-アニ-ル

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