特許
J-GLOBAL ID：201103071546424837
ホログラフィックレチクルを用いて光学システムを特徴付けする方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-512746
特許番号：特許第4599029号
出願日： 2001年07月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】複数の異なる周期的なフィーチャが設けられたホログラフィックレチクルを用いる、光学システムを特徴付ける方法であって、該方法は、
(1)前記光学システム内の光ビームの経路内に前記ホログラフィックレチクルを配置する工程と、
(2)前記ホログラフィックレチクルを含む第一の平面に対して、前記ホログラフィックレチクルを通過した前記光ビームによって生成される前記複数の異なる周期的なフィーチャの画像が記録される第二の平面を斜めに設定し、前記画像を、異なる焦点深度で同時に記録する工程と、
(3)前記光学システムを特徴付ける、前記複数の異なる周期的なフィーチャの画像の前記焦点深度に沿った特性を測定する工程と、
を含む方法。
IPC (4件)：
G03F 1/08 ( 200 6.01)
, G02B 27/18 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 1/08 B
, G02B 27/18 Z
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 A
審査官引用 (10件)
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特開昭55-097220
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電界放射型電子源の作製方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平10-158881
出願人：株式会社リコー
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チャープ格子形成装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平7-088318
出願人：住友電気工業株式会社
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引用文献：
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