特許
J-GLOBAL ID：201103073930915581
現像処理装置および現像処理方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高山 宏志
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-147789
公開番号（公開出願番号）：特開2001-332469
特許番号：特許第3686822号
出願日： 2000年05月19日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 露光処理された基板の保持手段および前記基板に現像液を塗布する現像液塗布手段ならびに現像液が塗布された基板にリンス液を塗布するリンス液塗布手段を有する現像処理部と、 前記現像処理部から排出された使用済み現像液を回収する回収部と、 前記回収部に貯留された使用済み現像液と前記基板に塗布される現像液よりも高濃度に調整された濃度調整用現像液とを混合して所定濃度の現像液を製造する現像液再生部と、 前記現像液再生部において製造された再生現像液を貯留するタンクを備え、前記タンクから再生現像液を前記現像液塗布手段に送液する現像液供給部と、 前記回収部と前記現像液再生部との間と、前記現像液再生部と前記現像液供給部との間に、それぞれ設けられた開閉バルブと、 を具備し、 前記回収部と前記現像液再生部と前記現像液供給部はそれぞれ独立して可動可能に構成され、 前記現像液再生部は濃度調整用タンクを有し、前記濃度調整用タンク内に多孔質体からなる容器または複数の孔部が形成された容器が配設されて内室および外室が形成され、 前記内室へ供給される前記濃度調整用現像液が、前記回収部から前記外室へ供給された前記使用済み現像液に対して、前記多孔質体または孔部を通過する際に前記濃度調整用現像液の流出圧により対流を発生させて攪拌し、前記再生現像液が製造されることを特徴とする現像処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 569 C
, G03F 7/30 502
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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