特許
J-GLOBAL ID：201103074540759011

投影光学系,該投影光学系を備えた露光装置,及び該露光装置を用いたデバイスの製造方法

発明者：
重松 幸二

重松 幸二 について

, 
松本 宏一

松本 宏一 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (4件)： 亀谷 美明 ,  金本 哲男 ,  萩原 康司 ,  井上 誠一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-310266
公開番号（公開出願番号）：特開2002-118053
特許番号：特許第4296701号
出願日： 2000年10月11日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 第1物体の像を第2物体上に投影する投影光学系であって, 前記投影光学系内の複数の位置に開口数を決定するための開口絞りが設けられ, 前記複数の位置に設けられた開口絞りは,物体面の光軸上から最大開口数を有するように光線追跡した時の光線と,物体面の最大高の位置から最大開口数を有するように光線追跡した時の上コマ側と下コマ側の光線とが同じ高さになるように配置されていることを特徴とする投影光学系。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G02B 13/18 ( 200 6.01) ,  G02B 13/22 ( 200 6.01) ,  G02B 13/24 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01)
FI (6件)：
H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 A ,  G02B 13/18 ,  G02B 13/22 ,  G02B 13/24 ,  G03F 7/20 521
引用特許：
審査官引用 (7件)
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