半導体部品用洗浄剤

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：白井重隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-286436
公開番号（公開出願番号）：特開2001-064681
特許番号：特許第4224659号
出願日： 1999年10月07日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 (a)スルホン酸(塩)基を有する単量体、カルボン酸(塩)基を有する単量体、水酸基を有する単量体、エチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドに由来する骨格を有する単量体、および窒素原子を有する単量体の群から選ばれた少なくとも1種の単量体、ならびに、(b)ビニルホスホン酸(塩)、からなる単量体成分を共重合してなる共重合体(塩)を主成分とし、化学的機械研磨前後の半導体部品洗浄に使用される半導体部品用洗浄剤。

IPC (2件)：