特許
J-GLOBAL ID：201103079005412241
製造プロセス制御装置、製造プロセス制御方法、製造プロセス制御プログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体、および半導体装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外7名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-186782
公開番号（公開出願番号）：特開2001-015444
特許番号：特許第3535416号
出願日： 1999年06月30日
公開日（公表日）： 2001年01月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 製造する半導体素子の基板内部の不純物分布情報を基板内部の不純物の拡散方程式を解くことにより抽出し、抽出した不純物分布情報から半導体素子の製造条件を決定し、決定した製造条件により半導体素子製造装置を制御する製造プロセス制御装置において、前記基板表面上に絶縁膜があるか否かを判別する絶縁膜判別手段と、前記基板表面上に絶縁膜があると判別した場合、前記拡散方程式を構成する拡散パラメータ値を絶縁膜内に含まれる不純物の濃度の関数として導出する拡散パラメータ導出手段と、前記拡散パラメータ値を導入した前記拡散方程式を解くことにより前記基板内部の不純物分布情報を抽出する基板内不純物分布抽出手段とを備えることを特徴とする製造プロセス制御装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/22 Z
, H01L 21/02 Z
