特許
J-GLOBAL ID：201103081107163844

露光用ArFエキシマレーザ装置

発明者：
柿崎 弘司

柿崎 弘司 について


出願人/特許権者：
株式会社ウシオ総合技術研究所

株式会社ウシオ総合技術研究所 について


代理人 (1件)： 韮澤 弘 (外7名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-288152
公開番号（公開出願番号）：特開2001-111142
特許番号：特許第3296430号
出願日： 1999年10月08日
公開日（公表日）： 2001年04月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 フッ素ガス、アルゴンガス及びアルゴンガス以外の少なくとも1種類の希ガスからなるレーザガスが封入されたレーザチェンバと、このレーザチェンバ内で高電圧パルス放電を発生させて前記レーザガスを励起してレーザ光を放出させるための高電圧パルス発生装置とを有し、3kHz以上の高繰返し発振動作を行う露光用ArFエキシマレーザ装置であって、前記高電圧パルス発生装置が発生する極性が反転する1パルスの放電振動電流波形の始めの半周期と、それに続く少なくとも2つの半周期によってレーザ発振動作を行わせるように構成された露光用ArFエキシマレーザ装置において、前記レーザガスのレーザチェンバ内圧力が2.5〜3.5気圧、前記レーザガスのフッ素濃度が0.12%以下、前記レーザガスのアルゴンガス濃度が2%以上3%以下であり、かつ、レーザパルス幅Tisが30ns以上であることを特徴とする露光用ArFエキシマレーザ装置。
IPC (3件)：
H01S 3/225 ,  H01S 3/036 ,  H01S 3/097
FI (3件)：
H01S 3/223 E ,  H01S 3/03 J ,  H01S 3/097 A
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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