特許
J-GLOBAL ID：201103086521122795
マスク、半導体装置および露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
高田 守
, 高橋 英樹
, 大阿久 敦子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-256000
公開番号（公開出願番号）：特開2003-068616
特許番号：特許第3600197号
出願日： 2001年08月27日
公開日（公表日）： 2003年03月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】複数の露光単位領域と、互いに隣接する露光単位領域の境界部に形成された梁とを備えたパターン転写用のマスクであって、隣接して配置された一群の露光単位領域が、前記マスク上に鈍角のみからなる多角形の梁構造領域を構成するように配置されていることを特徴とするマスク。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 1/16
, G03F 7/20
, G03F 9/00
H01L 21/30 541 S
, G03F 1/16 B
, G03F 1/16 E
, G03F 7/20 504
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
