写真製版によるパターン形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田守 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-006106
公開番号（公開出願番号）：特開2002-214803
特許番号：特許第3453365号
出願日： 2001年01月15日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】写真製版によるパターン形成方法であって、基板上に化学増幅系レジストを塗布する塗布工程と、シフターの領域に6%より大きく20%以下の透過率を有するハーフトーンマスクを用いて前記レジストを露光する露光工程と、前記レジストを現像する現像工程と、前記現像工程の前に、前記基板上に塗布された前記レジストを、塩基性イオン濃度が1ppb以上10ppb以下に管理された雰囲気に晒す中和工程と、を含むことを特徴とするパターン形成方法。

IPC (6件)：

G03F 7/38 511 , G03F 1/08 , G03F 7/039 601 , G03F 7/20 521 , G03F 7/26 501 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/38 511 , G03F 1/08 A , G03F 7/039 601 , G03F 7/20 521 , G03F 7/26 501 , H01L 21/30 568

引用特許：

審査官引用 (7件)

レジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-081535 出願人：株式会社東芝
レジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-236890 出願人：大日本印刷株式会社
特開平4-014058

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