特許
J-GLOBAL ID：200903068190441562

ポジ型レジスト組成物、樹脂および重合性化合物、それを用いたパターン形成方法

発明者：
吉田 優子

吉田 優子 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-040997
公開番号（公開出願番号）：特開2008-203639
出願日： 2007年02月21日
公開日（公表日）： 2008年09月04日
要約：
【課題】ラインエッジラフネスに優れ、且つ、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】(A)下記一般式(I)で表される基を有する繰り返し単位(a)を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、該樹脂を形成する化合物、それを用いたポジ型感光性組成物およびパターン形成方法。式中、R1はn+1価の炭化水素基を表す。R2、水素原子又は1価の有機基を表す。複数のR2は同一でも異なっていても良い。R3は、1価の有機基を表す。R2、R3は同一でも異なっていても良く、結合して環状構造を形成していてもよい。nは1以上の整数を表す【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(I)で表される基を有する繰り返し単位(a)を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/28
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/28
Fターム (35件)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA05P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BA40Q ,  4J100BC02Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC58P ,  4J100BC83P ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (17件)
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審査官引用 (12件)
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