特許
J-GLOBAL ID：201103098002035263
大面積プラズマ源および大面積プラズマ源内でプラズマ領域を囲むチャンバハウジング
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
鈴江 武彦
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
, 白根 俊郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-592463
特許番号：特許第4505145号
出願日： 1999年12月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 大面積の基板にプラズマアシストプロセスを行うために使用される大面積プラズマ源内でプラズマ領域を囲むチャンバハウジングであって、
プラズマ領域に対応する空間を囲むほぼ垂直に延びた壁を構成し、複数の開口部と、空間を囲む電気的シールドを形成する導電部材とを有するハウジング部材と、
周囲端を夫々有し、夫々が各開口部を閉じるように配置された、複数の誘電部材と、
前記ハウジング部材と、前記各誘電部材の各々の周囲端との間にハーメチックシールを形成するシール手段とを具備し、
前記ハウジング部材は、複数の凹部を有し、各凹部に前記各開口部が形成されており、また、前記シール手段は、各誘電部材の周囲端と凹部との間に配置され、
前記壁は、複数の平らな側面を有した多角形の形をしており、
前記側面の各々は、1つの開口部を有しており、
前記導電部材は、前記壁の上端と下端との間で、これらに固定されるように延びている金属バーであり、これらの金属バーの各々は、各開口部を横切るように延びている、チャンバハウジング。
IPC (5件)：
H01L 21/205 ( 200 6.01)
, B01J 19/08 ( 200 6.01)
, C23C 16/507 ( 200 6.01)
, H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
H01L 21/205
, B01J 19/08 H
, C23C 16/507
, H01L 21/302 101 C
, H05H 1/46 L
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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