レーザー照射装置及び半導体装置の作製方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-144064
公開番号（公開出願番号）：特開2000-091264
特許番号：特許第4663047号
出願日： 1999年05月24日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】一方向にレーザービームを分割する光学系と、前記分割したレーザービームを重ね合わせる光学系とを有し、前記分割する光学系の前記一方向における両端は遮光され、前記分割する光学系での前記レーザービームの断面形状の前記一方向の幅は、前記分割する光学系の遮光された両端を除いた前記一方向の幅よりも広いことを特徴とするレーザー照射装置。

IPC (2件)：