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J-GLOBAL ID：201202239345973311   整理番号：12A0909979

高圧力・膜厚均一を目指したCVD用アレイ型プラズマ源

Array type plasma source for CVD aimed at high pressure and film thickness uniformity

著者 (3件)： 星島一輝 (大阪大) ,  中島義晴 (大阪大) ,  木村憲明 (大阪大)
資料名： 電気学会プラズマ研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： PST-12  号： 13-26.28  ページ： 19-22  発行年： 2012年05月10日 
JST資料番号： Z0951A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 誘電体バリア放電を用いた小型プラズマ源を並べて大面積化するアレイ型プラズマ源で,電源からそれぞれの小型プラズマ源に供給する電力をデジタル符号化制御することにより,少ない数の電源で供給電力を制御する手法を考案した。この手法によるアレイ型プラズマ源を用いれば,アレイ型に並べた小型プラズマ源のプラズマ強度を均一にすることが可能であり,ターゲット基板の膜厚分布に応じてプラズマ強度を不均一にすることも可能である。アレイ型プラズマ源,計算機制御が可能な高電圧パルス発生ボード及びデジタル符号化制御プログラムを試作し,プラズマ強度分布制御を行った。

シソーラス用語： *プラズマ源 ,  無声放電 ,  電力制御 ,  計算制御 ,  *プラズマCVD ,  制御プログラム ,  符号化
準シソーラス用語： *アレイ型プラズマ源 ,  計算機制御 ,  放電プラズマ ,  膜厚分布 ,  誘電体バリア放電

分類 (2件)： プラズマ装置  (BJ02082I) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

引用文献 (5件)：

• (1) 節原裕一:「低インダクタンス内部アンテナを用いたプラズマ源の開発と反応性プラズマプロセスへの展開」,J.Plasma Fusion Res, Vol.87, No.1 p.24(2011)
• (2) 外山利彦:「プラズマCVDによる高速製膜技術を用いた微結晶Si太陽電池の高効率化」,J. Plasma Fusion Res, Vol.86, No.1p.21(2010)
• (3) 竹内良昭・真島浩・西宮立享・大坪栄一郎・山内康弘・高塚汎:「超高周波を用いた大面積プラズマCVDの開発と薄膜シリコン太陽電池への応用」,J. Plasma Fusion Res, Vol.87, No.1p,9(2011)
• (4) 菅井秀郎:「大面積プラズマCVDプロセスの開発最前線」,J. Plasma Fusion Res, Vol.86, No.1 p.28 (2010)
• (5) 野崎智洋・高木浩一・浪平隆男・北野勝久・金載浩・野村信福・市川紀充・冨田一・林信哉・岩尾徹:「大気圧プラズマを準備しよう」,J. Plasma Fusion Res, Vol.83, No.12 p.942 (2007)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高圧力 ,  膜厚 ,  CVD ,  アレイ ,  プラズマ源