EUV生成チャンバにおけるはね返り防止のための液滴捕集器に関するシステム、方法、及び装置

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：辻居幸一 , 熊倉禎男 , 大塚文昭 , 西島孝喜 , 須田洋之 , 上杉浩
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-504712
公開番号（公開出願番号）：特表2012-523666
出願日： 2010年03月31日
公開日（公表日）： 2012年10月04日
要約：

【課題】LPP EUV光源の作動プロセス中に生成される微粒子及びデブリをより良好に制御すること。【解決手段】集光ミラーと、ターゲット材料経路に沿って複数の液滴を排出するように位置合わせされた液滴出口を有する液滴生成システムと、第1の捕集部とを含み、第1の捕集部は、ターゲット材料経路と実質的に位置合わせされた第1の開放端部と、第1の捕集部の第2の端部の方向に向かう少なくとも1つの内表面とを含み、第2の端部は第1の開放端とは反対側にある、極紫外光チャンバ内で極紫外光を生成するシステム及び方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

集光ミラーと、ターゲット材料経路に沿って複数の液滴を排出するように位置合わせされた液滴出口を有する液滴生成システムと、第1の捕集部と、を備え、前記第1の捕集部は、前記ターゲット材料経路と実質的に位置合わせされた第1の開放端部と、前記第1の開放端部とは反対側の第2の閉鎖端部と、少なくとも1つの段部を含み、前記第1の捕集部の前記第2の端部の方向に向かう、少なくとも1つの内表面と、を含むことを特徴とする、極紫外光チャンバ。

IPC (2件)：

H05G 2/00 , H01L 21/027

FI (2件)：

H05G1/00 K , H01L21/30 531A

Fターム (12件)：

4C092AA06 , 4C092AA15 , 4C092AB19 , 4C092AC09 , 4C092BD05 , 4C092BD18 , 5F146GA21 , 5F146GA24 , 5F146GA28 , 5F146GB13 , 5F146GC12 , 5F146GC14

引用特許：

出願人引用 (8件)

廃棄物用溶融炉
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-334323 出願人：三菱重工業株式会社
極端紫外光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-058229 出願人：株式会社小松製作所
極端紫外光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-342700 出願人：国立大学法人宮崎大学

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審査官引用 (8件)

廃棄物用溶融炉
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-334323 出願人：三菱重工業株式会社
極端紫外光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-058229 出願人：株式会社小松製作所
極端紫外光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-342700 出願人：国立大学法人宮崎大学

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