特許
J-GLOBAL ID：200903050127296335

極端紫外光源装置

発明者：
菅沼 崇

菅沼 崇 について

, 
阿部 保

阿部 保 について

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染谷 浩

染谷 浩 について

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住谷 明

住谷 明 について


出願人/特許権者：
株式会社小松製作所

株式会社小松製作所 について


代理人 (3件)： 宇都宮 正明 ,  渡部 温 ,  柳瀬 睦肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-052301
公開番号（公開出願番号）：特開2008-218600
出願日： 2007年03月02日
公開日（公表日）： 2008年09月18日
要約：
【課題】EUV光を濾過するフィルタの劣化及び/又は破損を防止することが可能なEUV光源装置を提供する。【解決手段】このEUV光源装置は、EUV光の生成が行われるEUV生成チャンバ2と、EUV生成チャンバ2内にターゲット物質を供給するターゲット物質供給部3と、EUV生成チャンバ2内に供給されたターゲット物質にレーザビームを照射することによりプラズマを発生させるレーザ光源1と、プラズマから放射されるEUV光を集光するEUV光集光ミラー8と、EUV光集光ミラー8によって集光されたEUV光を濾過するSPF14と、プラズマとSPF14との間に配置され、プラズマからSPF14に向かって飛散する飛散物を遮ることによりSPF14を防護するSPF防護板15とを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ターゲット物質にレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置であって、 極端紫外光の生成が行われる極端紫外光生成チャンバと、 前記極端紫外光生成チャンバ内にターゲット物質を供給するターゲット物質供給手段と、 前記極端紫外光生成チャンバ内に供給されたターゲット物質にレーザビームを照射することによりプラズマを発生させるレーザ光源と、 前記プラズマから放射される極端紫外光を集光する集光光学系と、 前記集光光学系によって集光された極端紫外光を濾過するフィルタと、 前記プラズマと前記フィルタとの間に配置され、前記プラズマから前記フィルタに向かって飛散する飛散物を遮ることにより前記フィルタを防護するフィルタ防護部材と、 を具備する極端紫外光源装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  H05G 2/00
FI (2件)：
H01L21/30 531S ,  H05G1/00 K
Fターム (10件)：
4C092AA06 ,  4C092AA14 ,  4C092AA15 ,  4C092AA17 ,  4C092AB19 ,  4C092AC09 ,  4C092BD14 ,  4C092BD18 ,  4C092BD20 ,  5F046GC03
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (10件)
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