シリカ粒子及びその製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：中島淳 , 加藤和詳 , 福田浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-145221
公開番号（公開出願番号）：特開2012-006796
出願日： 2010年06月25日
公開日（公表日）： 2012年01月12日
要約：

【課題】シリカ粒子が、体積平均粒径が80nm以上300nm以下、粒度分布指標が1.10以上1.40以下、平均円形度が0.70以上0.92以下、円形度分布指標が1.05以上1.50以下である一次粒子を含まず、円形度が0.95以上である一次粒子の割合が10個数%を超える場合に比べ、流動性がよく、粒子への付着性及び分散性に優れたシリカ粒子を提供する。【解決手段】体積平均粒径が80nm以上300nm以下、粒度分布指標が1.10以上1.40以下、平均円形度が0.70以上0.92以下、円形度分布指標が1.05以上1.50以下である一次粒子を含み、かつ、円形度が0.95以上である一次粒子の割合は10個数%以下であるシリカ粒子である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

体積平均粒径が80nm以上300nm以下、粒度分布指標が1.10以上1.40以下、平均円形度が0.70以上0.92以下、円形度分布指標が1.05以上1.50以下である一次粒子を含み、かつ、円形度が0.95以上である一次粒子の割合は10個数%以下であるシリカ粒子。

IPC (1件)：

C01B 33/18

FI (2件)：

C01B33/18 Z , C01B33/18 C

Fターム (23件)：

4G072AA25 , 4G072AA41 , 4G072BB07 , 4G072CC13 , 4G072DD05 , 4G072DD06 , 4G072GG01 , 4G072GG03 , 4G072HH29 , 4G072HH30 , 4G072JJ23 , 4G072KK03 , 4G072LL11 , 4G072MM01 , 4G072MM21 , 4G072QQ07 , 4G072RR05 , 4G072RR12 , 4G072TT01 , 4G072TT02 , 4G072TT30 , 4G072UU07 , 4G072UU30

引用特許：

審査官引用 (15件)

微粒子亜球状シリカ及びその製造方法並びにこれを用いた樹脂フイルム
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-178999 出願人：新日鐵化学株式会社
特開平4-238807
疎水性球状シリカ微粒子、その製造方法、及び、それを用いた静電荷像現像用トナー外添剤
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-011227 出願人：信越化学工業株式会社

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引用文献：

審査官引用 (3件)

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