特許
J-GLOBAL ID:201203026513443846
薄膜誘電体
発明者:
小林 伸聖
小林 伸聖 について
名寄せID(JGPN) 200901100538191500 ですべてを検索
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岩佐 忠義
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名寄せID(JGPN) 200901100540121446 ですべてを検索
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横井 敦史
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名寄せID(JGPN) 200901100613589182 ですべてを検索
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大沼 繁弘
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名寄せID(JGPN) 200901100567605950 ですべてを検索
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出願人/特許権者:
公益財団法人電磁材料研究所
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名寄せID(JGON) 201551000096900488 ですべてを検索
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代理人 (1件):
村井 卓雄
公報種別:
公開公報
出願番号(国際出願番号):
特願2010-214360
公開番号(公開出願番号):
特開2012-069428
出願日:
2010年09月24日
公開日(公表日):
2012年04月05日
要約:
【課題】 従来の薄膜誘電体は、薄膜化することにより特性が劣化する。【解決手段】 ナノグラニュラー構造を有する薄膜誘電体:(イ)組成:一般式FeaCobNicMwNxOyFz,M成分はMg,Al,Si,Ti,Y,Zr,Nb,Hf及び/又はTa,組成比a,b,c,w,x,y,zは原子比率(%)で、0≦a≦60,0≦b≦60,0≦c≦60,10
請求項(抜粋):
組成が一般式FeaCobNicMwNxOyFzで表わされ,M成分はMg,Al,Si,Ti,Y,Zr,Nb,Hf,Taのうちから選択される1種又は2種以上の元素であり,組成比a,b,c,w,x,y,zは原子比率(%)で、0≦a≦60,0≦b≦60,0≦c≦60,10
IPC (7件):
H01B 3/02
, C01G 53/00
, H01B 3/00
, C01B 33/10
, C01G 51/00
, C03C 17/245
, C01G 49/10
FI (9件):
H01B3/02 Z
, C01G53/00 A
, H01B3/00 F
, C01B33/10
, C01G51/00 C
, C01G51/00 B
, C01G51/00 A
, C03C17/245 A
, C01G49/10
Fターム (36件):
4G048AA01
, 4G048AA03
, 4G048AA05
, 4G048AA06
, 4G048AB01
, 4G048AC02
, 4G048AD02
, 4G059AA08
, 4G059AC30
, 4G059EA07
, 4G059EB04
, 4G072AA19
, 4G072BB09
, 4G072FF01
, 4G072GG01
, 4G072NN11
, 4G072UU30
, 5E082FF05
, 5E082FG03
, 5E082FG26
, 5E082FG42
, 5G303AA07
, 5G303AB06
, 5G303BA03
, 5G303CA11
, 5G303CB01
, 5G303CB09
, 5G303CB13
, 5G303CB17
, 5G303CB21
, 5G303CB23
, 5G303CB30
, 5G303CB33
, 5G303CB35
, 5G303CB39
, 5G303CB40
引用特許:
出願人引用 (7件)
高電気比抵抗磁気抵抗膜
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願平11-307441
出願人:
財団法人電気磁気材料研究所
高電気抵抗を有する磁気抵抗膜
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願2001-184123
出願人:
財団法人電気磁気材料研究所
磁気抵抗比の温度係数が小さい磁気抵抗膜
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願2002-109814
出願人:
財団法人電気磁気材料研究所
垂直磁気記録媒体およびその製造方法
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願平9-080692
出願人:
株式会社デンソー, 学校法人トヨタ学園
シリコンウェハの欠陥低減法
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願平3-020241
出願人:
新日本製鐵株式会社, ニッテツ電子株式会社
CPP構造磁気抵抗効果素子
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願2002-262529
出願人:
富士通株式会社
薄膜磁気センサ
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願2008-271372
出願人:
大同特殊鋼株式会社
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審査官引用 (7件)
高電気比抵抗磁気抵抗膜
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願平11-307441
出願人:
財団法人電気磁気材料研究所
高電気抵抗を有する磁気抵抗膜
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願2001-184123
出願人:
財団法人電気磁気材料研究所
磁気抵抗比の温度係数が小さい磁気抵抗膜
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願2002-109814
出願人:
財団法人電気磁気材料研究所
垂直磁気記録媒体およびその製造方法
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願平9-080692
出願人:
株式会社デンソー, 学校法人トヨタ学園
シリコンウェハの欠陥低減法
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願平3-020241
出願人:
新日本製鐵株式会社, ニッテツ電子株式会社
CPP構造磁気抵抗効果素子
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願2002-262529
出願人:
富士通株式会社
薄膜磁気センサ
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願2008-271372
出願人:
大同特殊鋼株式会社
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