特許
J-GLOBAL ID:201203026765285054

マイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤巻 正憲
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-184457
公開番号(公開出願番号):特開2012-042765
出願日: 2010年08月19日
公開日(公表日): 2012年03月01日
要約:
【課題】マイクロレンズアレイを使用した露光装置において、露光装置特性及び温度条件等の製造条件の変動に起因して、被露光基板の大きさの変動が生じても、マスクパターンの像を所定位置に合わせることができるマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置を提供する。【解決手段】スキャン露光装置は、複数個のマイクロレンズアレイ2が、露光すべき基板1の上方に、スキャン方向に垂直の方向に配列して支持基板に支持されている。そして、各マイクロレンズアレイは、その配列方向に対し、露光基板に平行の方向から傾斜することができるように支持基板に支持されている。これらのマイクロレンズアレイの傾斜角度は前記配列方向に関し、徐々に大きく又は小さくなるように構成されている。【選択図】図6
請求項(抜粋):
露光すべき基板の上方に配置され、マイクロレンズが2次元的に配置された複数個のマイクロレンズアレイと、このマイクロレンズアレイの上方に配置され所定の露光パターンが形成されたマスクと、このマスクに対して露光光を照射する露光光源と、前記マイクロレンズアレイと前記基板及び前記マスクとを相対的に一方向に移動させる移動装置とを有し、前記複数個のマイクロレンズアレイは、支持基板上に、前記一方向に垂直の方向に配置されており、各マイクロレンズアレイは、前記支持基板に対してその配置方向に関し被露光基板に平行の方向から傾斜することができるように支持されていることを特徴とするマイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置。
IPC (1件):
G03F 7/20
FI (1件):
G03F7/20 501
Fターム (4件):
2H097BA10 ,  2H097BB03 ,  2H097GB02 ,  2H097LA12
引用特許:
審査官引用 (8件)
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