特許

J-GLOBAL ID：201203037310266630

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、感活性光線性または感放射線性膜およびパターン形成方法

発明者： 山口 修平 ,  渋谷 明規 ,  飯塚 裕介
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (18件)： 蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  勝村 紘 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-219515
公開番号（公開出願番号）：特開2012-073508
出願日： 2010年09月29日
公開日（公表日）： 2012年04月12日
要約：

【課題】現像欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いて形成された感活性光線性または感放射線性膜、および該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、(C)疎水性樹脂を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、疎水性樹脂(C)が、下記一般式(1)で表される単量体に由来する繰り返し単位を含むことを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。(式中の各記号は、特許請求の範囲に記載の意味を表す。) 【化1】【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、(C)疎水性樹脂を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、 疎水性樹脂(C)が、下記一般式(1)で表される単量体に由来する繰り返し単位を含むことを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/38 ,  C08F 212/14 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/38 501 ,  C08F212/14 ,  H01L21/30 502R

Fターム (92件)：

2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA04 ,  2H096EA05 ,  2H096EA23 ,  2H096GA08 ,  2H096JA02 ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF19P ,  2H125AF21P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH04 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ42Y ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ64Y ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ65Y ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ67X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ70Y ,  2H125AM12P ,  2H125AM22P ,  2H125AM23P ,  2H125AM43P ,  2H125AM86P ,  2H125AM94P ,  2H125AM99P ,  2H125AN08P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN63P ,  2H125AN65P ,  2H125AN82P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AB04P ,  4J100AB04R ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AL04S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA02P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA40R ,  4J100BA59Q ,  4J100BB07P ,  4J100BB07Q ,  4J100BB18P ,  4J100BB18Q ,  4J100BC03R ,  4J100BC09S ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53R ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (6件)

• スルホンアミド化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-249503   出願人：松下電器産業株式会社
• フルオロスルホンアミド基を含んだポリマーを含むポジ型フォトレジスト組成物およびその使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-000960   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
• ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物に用いられる樹脂、該樹脂の合成に用いられる化合物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-238730   出願人：富士フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-227547   出願人：富士フイルム株式会社
• 液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および含フッ素共重合体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-013024   出願人：東京応化工業株式会社
• スルホンアミド物質を含む組成物およびフォトリソグラフィー方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-263135   出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.