特許
J-GLOBAL ID：201203050419414083

光散乱計測ターゲット設計の最適化

発明者：
アデル・マイケル・イー.

アデル・マイケル・イー. について

, 
マナッセン・アムノン

マナッセン・アムノン について

, 
カンデル・ダニエル

カンデル・ダニエル について


出願人/特許権者：
ケーエルエー-テンカー・コーポレーション

ケーエルエー-テンカー・コーポレーション について


代理人 (1件)： 特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-545386
公開番号（公開出願番号）：特表2012-514871
出願日： 2010年01月04日
公開日（公表日）： 2012年06月28日
要約：
計測ターゲット設計が、計測ターゲット設計情報、基板情報、プロセス情報および計測システム情報を含む入力を用いて最適化される。測定システムによる測定信号の獲得が、計測ターゲットの1または複数の光学的特徴を生成するために入力を用いてモデル化される。計測システムによりなされた計測ターゲットの測定の予測精度および正確さを決定するために計測アルゴリズムが特徴に適用される。計測ターゲット設計に関する情報の一部が修正され、また、信号のモデル化および計測アルゴリズムが、1または複数の測定の精度および正確さを最適化するために、繰り返される。計測ターゲット設計が、精度および正確さが最適化された後に表示または格納される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
計測ターゲット設計を最適化するための方法であって、 a)前記計測ターゲット設計に関する情報、前記ターゲットが形成される基板に関する情報、前記計測ターゲットを形成するために用いられるプロセスに関する情報、または前記計測ターゲットを測定するために用いられる計測システムに関する情報を含む入力を受け取ること、 b)前記計測ターゲットの1または複数の光学的特徴を生成するために前記入力を用いて前記計測システムにより計測信号のモデルを獲得すること、 c)前記基板上の前記計測ターゲットを用いて前記計測システムによりなされる1または複数の測定の予測される精度および正確さを決定するために前記1または複数の光学的特徴に計測アルゴリズムを適用すること、 d)前記計測ターゲット設計に関する前記情報の少なくとも一部を修正すること、および、 e)前記精度および正確さが最適化された後に前記計測ターゲット設計を表わす情報を表示または格納することを備える、方法。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  G03F 9/00 ,  G03F 1/68 ,  G01B 11/06 ,  G01B 11/02
FI (6件)：
H01L21/30 522Z ,  H01L21/30 516Z ,  G03F9/00 A ,  G03F1/08 A ,  G01B11/06 G ,  G01B11/02 G
Fターム (45件)：
2F065AA21 ,  2F065AA30 ,  2F065BB02 ,  2F065BB17 ,  2F065BB18 ,  2F065BB28 ,  2F065CC18 ,  2F065CC19 ,  2F065DD06 ,  2F065FF41 ,  2F065FF51 ,  2F065FF61 ,  2F065GG06 ,  2F065GG24 ,  2F065GG25 ,  2F065HH04 ,  2F065HH09 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ18 ,  2F065JJ24 ,  2F065LL22 ,  2F065LL36 ,  2F065LL46 ,  2F065LL67 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ25 ,  2F065RR05 ,  2F065RR09 ,  2H095BB02 ,  2H095BB34 ,  2H095BC09 ,  2H095BE03 ,  2H097KA03 ,  2H097KA13 ,  2H097KA20 ,  2H097KA22 ,  2H097KA26 ,  2H097KA29 ,  2H097LA10 ,  5F146EA07 ,  5F146EA11 ,  5F146EA30 ,  5F146EB01 ,  5F146FC10
引用特許：
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM