特許
J-GLOBAL ID：200903051147262379
次数選択されたオーバレイ測定
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-513282
公開番号（公開出願番号）：特表2009-539109
出願日： 2007年05月31日
公開日（公表日）： 2009年11月12日
要約：
【課題】半導体ターゲットのオーバレイなどの特性を測定する装置および方法の提供。【解決手段】一般に、次数選択された画像化および/または照射が実行され、測定システムを用いてターゲットから画像を収集する。一実施において、調節可能な空間変調は本システムの画像化経路のみに提供される。他の実施において、その空間変調は本システムの照射経路および画像化経路の両方に提供される。特定の実施において、その空間変調は±nの回折次数を有する、隣接するグレーティングを画像化するために用いられる。隣接するグレーティングは半導体ウエハの異なる層または同一の層内であってよい。構造物間のオーバレイは通常、グレーティングの対称中心間の距離を測定することによって見出される。この実施形態の場合、n(nはゼロではない整数)の所定の選択に対して±nの次数のみが選択され、グレーティングはこれらの回折次数を用いてのみ画像化される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
半導体ターゲットの特性を測定するための光学装置であって、
照射線を生成し、照射経路を介して半導体ターゲットに対して前記照射線を向けるための照射システムと、
前記照射線に応じて、前記半導体ターゲットから散乱した光を方向付けるための画像化システムと
を備え、前記画像化システムは、
散乱した光から画像を形成するための画像センサと、
画像化経路を介して、散乱した光を前記センサに向けるように構成された1つ以上の光学部品と、
前記散乱した光の特定の回折次数を前記画像センサに選択的に向け、他方で、前記散乱した光のうちの、選択された他の回折次数を遮断して前記画像センサに到達しないようにするための調節可能な空間変調装置と
を備える、光学装置。
IPC (3件)：
G01B 11/00
, G01N 21/956
, H01L 21/66
G01B11/00 G
, G01N21/956 A
, H01L21/66 J
2F065CC17
, 2F065FF04
, 2F065FF48
, 2F065GG00
, 2F065JJ19
, 2F065JJ24
, 2F065LL04
, 2F065LL41
, 2F065LL42
, 2F065QQ08
, 2F065QQ24
, 2F065QQ25
, 2F065QQ29
, 2F065QQ31
, 2F065TT03
, 2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051BA10
, 2G051BB01
, 2G051CA04
, 2G051CB06
, 2G051CC07
, 2G051CC11
, 4M106AA01
, 4M106CA39
, 4M106DB04
, 4M106DJ19
, 4M106DJ20
, 4M106DJ21
