位置検出方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤元亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-293026
公開番号（公開出願番号）：特開2006-108386
出願日： 2004年10月05日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：

【課題】本発明は、アライメントマークの検出結果にばらつきがある場合でも、必要なアライメント精度とスループットの両立を可能にする位置検出方法を提供する。【解決手段】位置検出用マーク信号波形に基づいて複数のマーク要素からなるアライメントマークの位置を検出する位置検出方法であって、前記マーク要素の信号波形を特徴付けるパラメーターとしての波形特徴量に基づいて、前記マーク要素の信号波形の抽出方法を決定するステップと、前記マーク要素の信号波形を前記抽出方法を使用して取得するステップと、前記取得した前記信号波形から前記波形特徴量を少なくとも2以上抽出するステップと、前記マーク要素の理想の位置を表す真値と、前記マーク要素の現実の位置とのずれを補正する関数を生成するステップと、前記関数に基づいて前記ずれを補正するステップとを有し、前記生成ステップは、前記2以上の波形特徴量を使用して関数を生成することを特徴とする位置検出方法を提供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

位置検出用マーク信号波形に基づいて複数のマーク要素からなるアライメントマークの位置を検出する位置検出方法であって、前記マーク要素の信号波形を特徴付けるパラメーターとしての波形特徴量に基づいて、前記マーク要素の信号波形の抽出方法を決定するステップと、前記マーク要素の信号波形を前記抽出方法を使用して取得するステップと、前記取得した前記信号波形から前記波形特徴量を少なくとも2以上抽出するステップと、前記マーク要素の理想の位置を表す真値と、前記マーク要素の現実の位置とのずれを補正する関数を生成するステップと、前記関数に基づいて前記ずれを補正するステップとを有し、前記生成ステップは、前記2以上の波形特徴量を使用して関数を生成することを特徴とする位置検出方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G01B 11/00 , G03F 9/00

FI (3件)：

H01L21/30 525W , G01B11/00 C , G03F9/00 H

Fターム (34件)：

2F065AA03 , 2F065AA07 , 2F065AA12 , 2F065AA17 , 2F065AA22 , 2F065BB02 , 2F065BB27 , 2F065CC20 , 2F065FF04 , 2F065JJ02 , 2F065JJ03 , 2F065JJ25 , 2F065JJ26 , 2F065LL00 , 2F065LL08 , 2F065QQ03 , 2F065QQ13 , 2F065QQ17 , 2F065QQ18 , 2F065QQ29 , 2F065QQ34 , 2F065QQ38 , 2F065QQ42 , 2F065QQ43 , 5F046BA04 , 5F046BA05 , 5F046EA04 , 5F046EA09 , 5F046EB01 , 5F046EB07 , 5F046ED02 , 5F046FA10 , 5F046FA17 , 5F046FC04

引用特許：

出願人引用 (3件)

位置検出方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-277302 出願人：キヤノン株式会社
半導体集積回路パターンの位置合わせ方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-300206 出願人：株式会社日立製作所
位置合わせ方法、該方法による投影露光装置および位置ズレ計測装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-233059 出願人：キヤノン株式会社

審査官引用 (6件)

特開平1-207604
位置合わせ方法及びパラメータ選択方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-001599 出願人：キヤノン株式会社
特開平1-179221

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