特許
J-GLOBAL ID：201203052504172032

オーバレイ測定方法、リソグラフィ装置、検査装置、処理装置、及びリソグラフィ処理セル

発明者：
デン ボーフ,アリー

デン ボーフ,アリー について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-515422
公開番号（公開出願番号）：特表2012-530366
出願日： 2010年06月03日
公開日（公表日）： 2012年11月29日
要約：
【課題】オーバレイ測定を向上させる。【解決手段】生成物マーカ格子の非対称性などの生成物マーカ格子の横プロファイルに関する情報が測定結果から判定される。オーバレイマーカ格子がレジスト膜に印刷された後、生成物マーカ格子に対するオーバレイマーカ格子の横オーバレイがスキャトロメータによって、且つ適宜の処理モデルと組み合わせた判定済みの非対称情報を使用して測定される。アライメントセンサの情報を使用して、先ず生成物格子を再構築してもよく、この情報はスキャトロメータに送られ、スキャトロメータは生成物とレジスト格子との積層を測定し、積層によって散乱された光は、オーバレイを計算するために積層のモデルを再構築するために利用される。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
第1のマーカと第2のマーカの基板上での横オーバレイを測定する方法であって、 前記第1のマーカの横プロファイルに依存する前記第1のマーカの特性を前記基板上で測定するステップと、 前記第1のマーカの前記測定された特性から、前記第1のマーカの前記横プロファイルに関する情報を判定するステップと、 リソグラフィ装置を使用して、前記基板に対する前記第2のマーカのアライメントを含む前記第2のマーカを前記基板上に印刷するステップと、 前記判定された情報を使用して、前記第1のマーカに対する前記第2のマーカの前記基板上の横オーバレイを測定するステップと、 を含む方法。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  G03F 9/00 ,  G01B 11/00 ,  G01B 11/24 ,  G01N 21/956
FI (5件)：
H01L21/30 520Z ,  G03F9/00 H ,  G01B11/00 G ,  G01B11/24 D ,  G01N21/956 A
Fターム (37件)：
2F065AA03 ,  2F065AA07 ,  2F065AA14 ,  2F065BB02 ,  2F065CC01 ,  2F065CC20 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF41 ,  2F065FF48 ,  2F065GG02 ,  2F065GG24 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL22 ,  2F065LL67 ,  2F065PP11 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ31 ,  2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051BA05 ,  2G051BA08 ,  2G051BB07 ,  2G051BB09 ,  2G051BB11 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CB05 ,  2G051DA07 ,  2G051EA09 ,  5F146DA29 ,  5F146DB05 ,  5F146DD03 ,  5F146EB01 ,  5F146ED05 ,  5F146FC04
引用特許：
審査官引用 (7件)
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