特許
J-GLOBAL ID：201203068325646548
パターン配向膜の製造方法、それを用いたパターン位相差フィルムの製造方法およびその製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-045429
公開番号（公開出願番号）：特開2012-198522
出願日： 2012年03月01日
公開日（公表日）： 2012年10月18日
要約：
【課題】本発明は、パターン位相差フィルムを容易に大量に製造することが可能なパターン配向膜の製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、透明フィルム基材、および上記透明フィルム基材上に形成され、光配向材料を含む配向層形成用層を有する長尺配向膜形成用フィルムを連続的に搬送しつつ、上記配向層形成用層に偏光紫外線を照射する第1露光処理および第2露光処理を含み、配向層を形成する露光工程を有し、上記第1露光処理および第2露光処理で照射される偏光紫外線の偏光方向が異なるものであり、上記第1露光処理および第2露光処理の少なくともいずれか一方が、上記配向層形成用層に偏光紫外線をパターン照射するものであることを特徴とするパターン配向膜の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
透明フィルム基材、および前記透明フィルム基材上に形成され、光配向材料を含む配向層形成用層を有する長尺配向膜形成用フィルムを連続的に搬送しつつ、前記配向層形成用層に偏光紫外線を照射する第1露光処理および第2露光処理を含み、配向層を形成する露光工程を有し、
前記第1露光処理および第2露光処理で照射される偏光紫外線の偏光方向が異なるものであり、前記第1露光処理および第2露光処理の少なくともいずれか一方が、前記配向層形成用層に偏光紫外線をパターン照射するものであることを特徴とするパターン配向膜の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (32件)：
2H149AA20
, 2H149AB26
, 2H149DA01
, 2H149DA04
, 2H149DA12
, 2H149DB06
, 2H149FA02Z
, 2H149FA33Y
, 2H149FB04
, 2H149FB05
, 2H149FC02
, 2H191FA05Y
, 2H191FA30X
, 2H191FB02
, 2H191FB05
, 2H191FC10
, 2H191FC13
, 2H191FC32
, 2H191FC33
, 2H191FD04
, 2H191FD12
, 2H191FD19
, 2H191GA01
, 2H191GA08
, 2H191HA06
, 2H191HA11
, 2H191HA15
, 2H191LA13
, 2H191MA01
, 2H191PA44
, 2H191PA50
, 2H191PA62
