樹脂、レジスト組成物及びレジストパターン製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：中山亨 , 坂元徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-243143
公開番号（公開出願番号）：特開2012-118518
出願日： 2011年11月07日
公開日（公表日）： 2012年06月21日
要約：

【課題】優れたCD均一性のパターンを製造できるレジスト組成物及び該組成物に有用な樹脂の提供。【解決手段】式(aa)で表される構造単位を有する樹脂及び該樹脂、酸発生剤、溶剤とを有する組成物。[式(aa)中、T1は、置換基を有していてもよいスルトン環基を表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(aa)で表される構造単位を有する樹脂。

IPC (4件)：

G03F 7/039 , G03F 7/038 , C08F 20/38 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 , G03F7/038 501 , C08F20/38 , H01L21/30 502R

Fターム (44件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF38P , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH22 , 2H125AH23 , 2H125AJ14X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN45P , 2H125AN54P , 2H125AN65P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AL08T , 4J100BA02T , 4J100BA03R , 4J100BA11S , 4J100BA11T , 4J100BA15T , 4J100BA35T , 4J100BC04Q , 4J100BC09P , 4J100BC09R , 4J100BC53S , 4J100BC53T , 4J100BC84Q , 4J100BC84T , 4J100CA03 , 4J100DA01 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (7件)

感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-211650 出願人：JSR株式会社
感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-040777 出願人：JSR株式会社
感放射線性樹脂組成物及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-073725 出願人：JSR株式会社

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