特許
J-GLOBAL ID:201203072803712583

シリカ多孔質膜を有する積層体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-149156
公開番号(公開出願番号):特開2012-030592
出願日: 2011年07月05日
公開日(公表日): 2012年02月16日
要約:
【課題】基材と多孔質シリカ膜との密着性が高く、可視光線透過率が高い、多孔質シリカ膜を有する積層体を提供する。【解決手段】Tgが200°C以下の透光性基材上に、屈折率が1.20〜1.35である多孔質シリカ膜を有する積層体であって、ミルスペックMIL-CCC-c-440に記載のチーズクロスを荷重500g/cm2で前記多孔質シリカ膜表面上を20往復させる耐摩耗性試験において、前記積層体の可視光線透過率の変化量が、試験前の前記積層体の可視光線透過率に対して5%未満であることを特徴とする積層体。【選択図】なし
請求項(抜粋):
Tgが200°C以下の透光性基材上に、屈折率が1.20〜1.35である多孔質シリカ膜を有する積層体であって、ミルスペックMIL-CCC-c-440に記載のチーズクロスを荷重500g/cm2で前記多孔質シリカ膜表面上を20往復させる耐摩耗性試験において、前記積層体の可視光線透過率の変化量が、試験前の前記積層体の可視光線透過率に対して5%未満であることを特徴とする積層体。
IPC (4件):
B32B 5/18 ,  C01B 33/12 ,  B32B 9/00 ,  C08J 7/06
FI (5件):
B32B5/18 ,  C01B33/12 C ,  B32B9/00 A ,  C08J7/06 Z ,  C08J7/06
Fターム (52件):
4F006AA18 ,  4F006AA22 ,  4F006AA32 ,  4F006AA35 ,  4F006AA36 ,  4F006AB64 ,  4F006AB67 ,  4F006AB76 ,  4F006BA02 ,  4F006BA14 ,  4F006CA08 ,  4F100AA20B ,  4F100AH06A ,  4F100AK04A ,  4F100AK04J ,  4F100AK18A ,  4F100AK18J ,  4F100AK25A ,  4F100AK42A ,  4F100AK45A ,  4F100AL01A ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100DD07B ,  4F100DJ00B ,  4F100EH46 ,  4F100JA05A ,  4F100JK06 ,  4F100JK09 ,  4F100JK14 ,  4F100JL06 ,  4F100JM02B ,  4F100JN01A ,  4F100JN08 ,  4F100JN18B ,  4F100YY00A ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072FF07 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ47 ,  4G072LL15 ,  4G072MM31 ,  4G072MM40 ,  4G072PP03 ,  4G072RR05 ,  4G072RR12 ,  4G072TT30 ,  4G072UU02 ,  4G072UU30
引用特許:
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る