特許
J-GLOBAL ID:201203072803712583
シリカ多孔質膜を有する積層体及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-149156
公開番号(公開出願番号):特開2012-030592
出願日: 2011年07月05日
公開日(公表日): 2012年02月16日
要約:
【課題】基材と多孔質シリカ膜との密着性が高く、可視光線透過率が高い、多孔質シリカ膜を有する積層体を提供する。【解決手段】Tgが200°C以下の透光性基材上に、屈折率が1.20〜1.35である多孔質シリカ膜を有する積層体であって、ミルスペックMIL-CCC-c-440に記載のチーズクロスを荷重500g/cm2で前記多孔質シリカ膜表面上を20往復させる耐摩耗性試験において、前記積層体の可視光線透過率の変化量が、試験前の前記積層体の可視光線透過率に対して5%未満であることを特徴とする積層体。【選択図】なし
請求項(抜粋):
Tgが200°C以下の透光性基材上に、屈折率が1.20〜1.35である多孔質シリカ膜を有する積層体であって、ミルスペックMIL-CCC-c-440に記載のチーズクロスを荷重500g/cm2で前記多孔質シリカ膜表面上を20往復させる耐摩耗性試験において、前記積層体の可視光線透過率の変化量が、試験前の前記積層体の可視光線透過率に対して5%未満であることを特徴とする積層体。
IPC (4件):
B32B 5/18
, C01B 33/12
, B32B 9/00
, C08J 7/06
FI (5件):
B32B5/18
, C01B33/12 C
, B32B9/00 A
, C08J7/06 Z
, C08J7/06
Fターム (52件):
4F006AA18
, 4F006AA22
, 4F006AA32
, 4F006AA35
, 4F006AA36
, 4F006AB64
, 4F006AB67
, 4F006AB76
, 4F006BA02
, 4F006BA14
, 4F006CA08
, 4F100AA20B
, 4F100AH06A
, 4F100AK04A
, 4F100AK04J
, 4F100AK18A
, 4F100AK18J
, 4F100AK25A
, 4F100AK42A
, 4F100AK45A
, 4F100AL01A
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100DD07B
, 4F100DJ00B
, 4F100EH46
, 4F100JA05A
, 4F100JK06
, 4F100JK09
, 4F100JK14
, 4F100JL06
, 4F100JM02B
, 4F100JN01A
, 4F100JN08
, 4F100JN18B
, 4F100YY00A
, 4G072AA25
, 4G072BB09
, 4G072FF07
, 4G072GG03
, 4G072HH30
, 4G072JJ11
, 4G072JJ47
, 4G072LL15
, 4G072MM31
, 4G072MM40
, 4G072PP03
, 4G072RR05
, 4G072RR12
, 4G072TT30
, 4G072UU02
, 4G072UU30
引用特許:
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