特許
J-GLOBAL ID：201203075554769714

誘電体薄膜形成用組成物、誘電体薄膜の形成方法及び該方法により形成された誘電体薄膜

発明者：
渡辺 敏昭

渡辺 敏昭 について

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桜井 英章

桜井 英章 について

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曽山 信幸

曽山 信幸 について

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ゲガン,ギョーム

ゲガン,ギョーム について


出願人/特許権者：
三菱マテリアル株式会社

三菱マテリアル株式会社 について


代理人 (1件)： 須田 正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-158537
公開番号（公開出願番号）：特開2012-054538
出願日： 2011年07月20日
公開日（公表日）： 2012年03月15日
要約：
【課題】薄膜キャパシタ等において、チューナビリティ、リーク電流特性及び誘電率を向上させ得る誘電体薄膜形成用組成物、誘電体薄膜の形成方法及び誘電体薄膜を提供する。【解決手段】一般式:Ba1-xSrxTiyO3(式中0.2<x<0.6、0.9<y<1.1)で示される複合金属酸化物Aに、Cu(銅)を含む複合酸化物Bが混合した混合複合金属酸化物の形態をとる薄膜を形成するための液状組成物であり、複合金属酸化物Aを構成するための原料及び複合酸化物Bを構成するための原料が上記一般式で示される金属原子比を与えるような割合で、かつAとBとのモル比B/Aが0.001≦B/A<0.15の範囲内となるように、有機溶媒中に溶解している有機金属化合物溶液からなることを特徴とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
BST誘電体薄膜を形成するための誘電体薄膜形成用組成物において、 一般式:Ba1-xSrxTiyO3(式中0.2<x<0.6、0.9<y<1.1)で示される複合金属酸化物Aに、Cu(銅)を含む複合酸化物Bが混合した混合複合金属酸化物の形態をとる薄膜を形成するための液状組成物であり、 前記複合金属酸化物Aを構成するための原料及び前記複合酸化物Bを構成するための原料が、前記一般式で示される金属原子比を与えるような割合で、かつ前記Aと前記Bとのモル比B/Aが0.001≦B/A<0.15の範囲内となるように、有機溶媒中に溶解している有機金属化合物溶液からなる ことを特徴とする誘電体薄膜形成用組成物。
IPC (12件)：
H01L 21/316 ,  H01L 27/105 ,  H01L 21/824 ,  H01L 27/108 ,  H01L 41/09 ,  H01L 41/08 ,  H01L 41/18 ,  H01L 41/22 ,  H01L 41/24 ,  H01L 27/04 ,  H01L 21/822 ,  C04B 35/468
FI (12件)：
H01L21/316 G ,  H01L27/10 444C ,  H01L27/10 651 ,  H01L41/08 C ,  H01L41/08 Z ,  H01L41/18 101Z ,  H01L41/22 Z ,  H01L41/22 A ,  H01L41/08 L ,  H01L27/04 C ,  C04B35/46 D ,  H01L21/316 P
Fターム (35件)：
4G031AA05 ,  4G031AA06 ,  4G031AA11 ,  4G031AA25 ,  4G031AA40 ,  4G031BA09 ,  4G031CA08 ,  4G031GA01 ,  4G031GA02 ,  4G031GA04 ,  4G031GA05 ,  4G031GA06 ,  4G031GA07 ,  5F038AC05 ,  5F038AC15 ,  5F038AC17 ,  5F038AC18 ,  5F038EZ11 ,  5F038EZ20 ,  5F058BA11 ,  5F058BC03 ,  5F058BC04 ,  5F058BD05 ,  5F058BD06 ,  5F083AD11 ,  5F083GA06 ,  5F083GA11 ,  5F083GA30 ,  5F083JA14 ,  5F083JA38 ,  5F083JA43 ,  5F083JA45 ,  5F083PR23 ,  5F083PR33 ,  5F083PR34
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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