特許
J-GLOBAL ID:200903006077760559
誘電体薄膜とその製造方法および用途
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
千葉 博史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-335513
公開番号(公開出願番号):特開2009-177171
出願日: 2008年12月27日
公開日(公表日): 2009年08月06日
要約:
【課題】薄膜表面に延びる長いクラックが存在せず、絶縁体圧の高い誘電体薄膜とその製造方法を提供する。【解決手段】組成がBa1-xSrxTiyO3(0≦x≦1、0.9≦y≦1.1)からなる誘電体薄膜の製造において、該薄膜の前駆物質を基板に塗布して乾燥した後、該乾燥薄膜を30°C/分以下の昇温速度で本焼成を行うことによって、平均1次粒子径が70nm以上であり、薄膜表面に連続する直線状の長さ1.5μm以上の亀裂が存在せず、電圧5Vにおけるリーク電流密度が10-5A/cm2未満、ないし電圧20Vにおけるリーク電流密度が10-1A/cm2未満である誘電体薄膜を形成する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
組成がBa1-xSrxTiyO3(0≦x≦1、0.9≦y≦1.1)からなる誘電体薄膜において、薄膜を形成する誘電体結晶粒子の平均1次粒子径が70nm以上であり、薄膜表面に連続する直線状の長さ1.5μm以上の亀裂が存在しないことを特徴とする誘電体薄膜。
IPC (8件):
H01L 21/316
, H01G 4/33
, H01G 4/12
, H01L 21/824
, H01L 27/108
, H01L 29/78
, H01L 41/18
, H01L 41/24
FI (7件):
H01L21/316 P
, H01G4/06 102
, H01G4/12 397
, H01L27/10 651
, H01L29/78 301G
, H01L41/18 101Z
, H01L41/22 A
Fターム (22件):
5E001AB06
, 5E001AE01
, 5E001AE02
, 5E001AE03
, 5E082FG26
, 5E082PP01
, 5E082PP09
, 5F058BA01
, 5F058BA04
, 5F058BC03
, 5F058BD05
, 5F058BF46
, 5F058BH03
, 5F083AD00
, 5F083GA27
, 5F083JA14
, 5F083PR23
, 5F083PR33
, 5F140AA24
, 5F140BD13
, 5F140BE09
, 5F140BE16
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (8件)
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