特許
J-GLOBAL ID：201203088085754446
センサ素子をシームレスにインサート成形することによりセンサを製造する方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
久野 琢也
, 矢野 敏雄
, 高橋 佳大
, 来間 清志
, 星 公弘
, 二宮 浩康
, 篠 良一
, アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-549532
公開番号（公開出願番号）：特表2012-517367
出願日： 2010年02月09日
公開日（公表日）： 2012年08月02日
要約：
本発明は、センサ素子をシームレスにインサート成形することによってセンサを製造する方法、並びにこの方法により製造されたセンサに関する。センサ素子は射出成形材料によって可能な限り密に取り囲まれている。これによりセンサの周辺からの水、酸、油又は他の浸食性の物質がセンサに進入することが長期間に亘って防がれるセンサを製造する方法並びにこの方法により製造されたセンサを提供するために、金型キャビティ(1)内にセンサ素子(2)を挿入し、金型キャビティ(1)の第2の領域(4)において金型キャビティ(1)に係合する少なくとも1つの可動な位置固定エレメント(5)により、センサ素子(2)を金型キャビティ(1)において機械的に固定し、金型キャビティ(1)内に射出成形材料(6)を射出し、金型キャビティ(1)の第1の領域(3)における射出成形材料(6)は硬化させられて、第1の領域(3)において硬化した射出成形材料(6)がセンサ素子(2)を位置固定するまで待ち、第2の領域(4)に設けられている射出成形材料(6)が硬化する前に、可動な固定エレメント(5)を取り出して、依然として液状の射出成形材料(6)は取り出された固定エレメント(5)によって金型キャビティ(1)に残された中空室を少なくとも部分的に充填する、方法ステップを実施する。
請求項（抜粋）：
センサ素子(2)をシームレスにインサート成形することによってセンサ(9)を製造する方法において、
-金型キャビティ(1)内にセンサ素子(2)を挿入し、
-前記金型キャビティ(1)の第2の領域(4)において前記金型キャビティ(1)に係合する少なくとも1つの可動な固定エレメント(5)により、前記センサ素子(2)を前記金型キャビティ(1)において機械的に固定し、
-前記金型キャビティ(1)内に射出成形材料(6)を射出し、
-前記金型キャビティ(1)の第1の領域(3)における射出成形材料(6)が硬化して、該第1の領域(3)において硬化した前記射出成形材料(6)が前記センサ素子(2)を位置固定するまで待ち、
-前記第2の領域(4)に設けられている前記射出成形材料(6)が硬化する前に、前記可動な固定エレメント(5)を取り出して、依然として液状の前記射出成形材料(6)が、取り出された前記固定エレメント(5)によって前記金型キャビティ(1)に残された中空室を少なくとも部分的に充填する、
方法ステップを有することを特徴とする、センサ素子をシームレスにインサート成形することによってセンサを製造する方法。
IPC (5件)：
B29C 45/26
, G01K 7/22
, G01D 5/245
, B29C 33/12
, B29C 45/14
B29C45/26
, G01K7/22 J
, G01D5/245 110X
, B29C33/12
, B29C45/14
2F056QF01
, 2F056QF04
, 2F056QF05
, 2F056QF07
, 2F077AA41
, 2F077AA42
, 2F077AA46
, 2F077VV03
, 2F077VV33
, 4F202AD19B
, 4F202AH37
, 4F202AM32
, 4F202CA11
, 4F202CB12
, 4F202CK52
, 4F202CQ03
, 4F202CQ07
, 4F206AD19B
, 4F206AH37
, 4F206AM32
, 4F206JA07
, 4F206JB12
, 4F206JB17
, 4F206JM04
, 4F206JN25
, 4F206JQ81
