特許
J-GLOBAL ID：201203088544545740

検査装置及び欠陥検査方法

発明者：
仙洞田 哲也

仙洞田 哲也 について


出願人/特許権者：
レーザーテック株式会社

レーザーテック株式会社 について


代理人 (2件)： 大山 健次郎 ,  小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-087897
公開番号（公開出願番号）：特開2012-220388
出願日： 2011年04月12日
公開日（公表日）： 2012年11月12日
要約：
【課題】マスク基板に形成された光学歪みによる不具合が解消され、欠陥検出の感度を高くできる検査装置を提供する。【解決手段】光源装置1から出射した照明光をフォトマスク8に向けて透過検査用として投射する第1の照明光学系(4〜7)と、前記フォトマスク支持すると共に第1の方向及び第1の方向と直交する第2の方向に移動可能なステージ9と、フォトマスクを透過した透過光を対物レンズ11及び偏光分離手段13を介して受光する光検出手段(17,18)と、光検出手段から出力される輝度信号を受け取り、フォトマスクに存在する欠陥を検出する信号処理装置19とを具える。信号処理装置は、マスクパターンが形成される前のマスク基板の透過光の輝度分布データを記憶したメモリと、前記輝度分布データに基づいて前記光検出手段から出力される輝度信号又は光源装置から放出される照明光の強度を補正する補正手段を有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
照明光を発生する光源装置と、光源装置から出射した照明光を検査すべきフォトマスクに向けて透過検査用の照明光として投射する第1の照明光学系と、前記フォトマスク保持するステージと、フォトマスクを透過した透過光を集光する対物レンズと、対物レンズから出射した透過光を偏光分離手段を介して受光する光検出手段と、光検出手段から出力される輝度信号を受け取り、フォトマスクに存在する欠陥を検出する信号処理装置とを具え、 前記信号処理装置は、マスクパターンが形成される前のマスク基板を前記透過検査用の照明光によって、前記マスク基板表面と平行な方向へ相対的に走査することにより前記光検出手段から出力される輝度信号の輝度分布データを記憶したメモリと、前記輝度分布データを用いて前記光検出手段から出力される輝度信号の輝度値又は光源装置から放出される照明光の強度を補正する補正手段を有することを特徴とする検査装置。
IPC (2件)：
G01N 21/956 ,  G01N 21/88
FI (2件)：
G01N21/956 A ,  G01N21/88 H
Fターム (25件)：
2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051BA05 ,  2G051BA10 ,  2G051BA11 ,  2G051BB07 ,  2G051BB09 ,  2G051BB11 ,  2G051BB20 ,  2G051BC01 ,  2G051CA03 ,  2G051CA07 ,  2G051CB02 ,  2G051CB03 ,  2G051CC07 ,  2G051CC11 ,  2G051DA07 ,  2G051EA04 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA16 ,  2G051EA24 ,  2G051EB01
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (7件)
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