特許

J-GLOBAL ID：201203089169714136

ペロブスカイト型酸化物膜及びそれを用いた強誘電体膜、強誘電体素子、ペロブスカイト型酸化物膜の製造方法

発明者： 坂下 幸雄 ,  舟窪 浩 ,  黒澤 実 ,  石河 睦生 ,  榮西 弘 ,  白石 貴久
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学
代理人 (2件)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-065517
公開番号（公開出願番号）：特開2012-106902
出願日： 2011年03月24日
公開日（公表日）： 2012年06月07日
要約：

【課題】圧電素子用に、組成ずれが少なく結晶性の良好なニオブ酸カリウム混晶系ペロブスカイト型酸化物厚膜を提供する。【解決手段】ペロブスカイト型酸化物膜1は、基板10上に成膜され、平均膜厚が5μm以上であり、且つ、一般式(P)で表されるペロブスカイト型酸化物を含む。(K1-w-x,Aw,Bx)(Nb1-y-z,Cy,Dz)O3・・・(P)(式中、0 請求項（抜粋）：

基板上に成膜されるペロブスカイト型酸化物膜であって、 平均膜厚が5μm以上であり、且つ、 下記一般式(P)で表されるペロブスカイト型酸化物を含むことを特徴とするペロブスカイト型酸化物膜。 (K1-w-x,Aw,Bx)(Nb1-y-z,Cy,Dz)O3 ・・・(P) (式中、0 IPC (10件)：

C01G 33/00 ,  H01L 41/18 ,  H01L 41/24 ,  H01L 41/09 ,  H01L 41/22 ,  H01L 27/105 ,  H01L 21/824 ,  H01L 41/08 ,  H01L 21/208 ,  B41J 2/16

FI (10件)：

C01G33/00 A ,  H01L41/18 101Z ,  H01L41/22 A ,  H01L41/08 C ,  H01L41/08 L ,  H01L41/22 Z ,  H01L27/10 444C ,  H01L41/08 Z ,  H01L21/208 D ,  B41J3/04 103H

Fターム (32件)：

2C057AF93 ,  2C057AG44 ,  2C057AP14 ,  4G048AA04 ,  4G048AA05 ,  4G048AB02 ,  4G048AC01 ,  4G048AC02 ,  4G048AD02 ,  4G048AD08 ,  4G048AE05 ,  5F053AA03 ,  5F053AA50 ,  5F053DD20 ,  5F053LL10 ,  5F083FR00 ,  5F083GA25 ,  5F083GA27 ,  5F083GA29 ,  5F083GA30 ,  5F083HA10 ,  5F083JA13 ,  5F083JA17 ,  5F083JA36 ,  5F083JA37 ,  5F083JA38 ,  5F083JA39 ,  5F083JA43 ,  5F083JA45 ,  5F083PR22 ,  5F083PR23 ,  5F083PR33

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 圧電薄膜素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-222923   出願人：日立電線株式会社
• セラミックス膜の製造方法及びセラミックス膜を含む構造物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-331784   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 圧電薄膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-117096   出願人：日立電線株式会社
• 圧電薄膜素子及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-156318   出願人：日立電線株式会社
• ニオブ酸カリウム結晶又は結晶薄膜の水熱合成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-079746   出願人：独立行政法人科学技術振興機構