特許
J-GLOBAL ID:201303000166453931
スパッタリングによる堆積方法、得られた製品及びスパッタリングターゲット
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 永坂 友康
, 小林 良博
, 出野 知
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-518993
公開番号(公開出願番号):特表2012-532985
出願日: 2010年07月08日
公開日(公表日): 2012年12月20日
要約:
本発明は、ビスマスとビスマス以外の少なくとも1つの金属との混合酸化物からなる光触媒膜でコーティングされた基材を製造するための方法であって、前記酸化物をスパッタリング技術によって堆積させる少なくとも1つの工程を含む方法に関する。
請求項(抜粋):
ビスマスとビスマス以外の少なくとも1つの金属との混合酸化物に基づく光触媒膜でコーティングされた基材を得るための方法であって、前記酸化物をスパッタリング技術によって堆積させる堆積工程を少なくとも含む、方法。
IPC (7件):
C23C 14/34
, B32B 9/00
, C03C 17/245
, B01J 35/02
, C04B 35/00
, B01J 23/22
, C01G 31/00
FI (7件):
C23C14/34 A
, B32B9/00 A
, C03C17/245 A
, B01J35/02 J
, C04B35/00 J
, B01J23/22 M
, C01G31/00
Fターム (73件):
4F100AA17A
, 4F100AA33A
, 4F100AB01A
, 4F100AB09A
, 4F100AG00B
, 4F100AT00B
, 4F100BA02
, 4F100BA07
, 4F100EH66A
, 4F100GB08
, 4F100GB33
, 4F100JK01
, 4F100JK09
, 4F100JL06
, 4G030AA03
, 4G030AA08
, 4G030AA10
, 4G030AA19
, 4G030AA20
, 4G030AA21
, 4G030AA24
, 4G030AA43
, 4G030BA34
, 4G030CA01
, 4G030CA08
, 4G030GA01
, 4G030GA09
, 4G030GA11
, 4G030GA20
, 4G030GA24
, 4G030GA27
, 4G030GA28
, 4G048AA03
, 4G048AB01
, 4G048AB05
, 4G048AC08
, 4G048AD02
, 4G048AE05
, 4G048AE07
, 4G059AA01
, 4G059AB09
, 4G059AC22
, 4G059AC30
, 4G059EA07
, 4G059EB04
, 4G169AA01
, 4G169BA48A
, 4G169BA48C
, 4G169BC02A
, 4G169BC09A
, 4G169BC13A
, 4G169BC25A
, 4G169BC54A
, 4G169BC56A
, 4G169BC60A
, 4G169FB02
, 4G169FB33
, 4G169HA01
, 4G169HB10
, 4G169HD04
, 4G169HD05
, 4G169HD13
, 4G169HE07
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA50
, 4K029CA06
, 4K029DC05
, 4K029DC09
, 4K029DC34
, 4K029DC35
, 4K029DC39
, 4K029GA01
引用特許:
引用文献:
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