塩、酸発生剤及びレジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-142717
公開番号（公開出願番号）：特開2013-028540
出願日： 2011年06月28日
公開日（公表日）： 2013年02月07日
要約：

【課題】優れた形状でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式(I)で表される塩、この塩を含有する酸発生剤、この酸発生剤と樹脂とを含有するレジスト組成物。[式中、R1及びR2は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基;L1は、2価の飽和炭化水素基を表し、該基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい;環W1は複素環;R3は、水素原子又は炭化水素基を表し、該基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい;R4は、独立に炭化水素基を表し、該基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい;mは0〜6の整数;Z+は有機カチオンを表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)で表される塩。

IPC (8件)：

C07D 207/12 , G03F 7/004 , G03F 7/039 , C07C 381/12 , C09K 3/00 , C07D 211/46 , C07D 451/10 , C07D 327/08

FI (8件)：

C07D207/12 , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , C07C381/12 , C09K3/00 K , C07D211/46 , C07D451/10 , C07D327/08

Fターム (46件)：

2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF20P , 2H125AF38P , 2H125AF70P , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AJ14X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AJ69Y , 2H125AL02 , 2H125AL11 , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN45P , 2H125AN54P , 2H125AN65P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4C054AA02 , 4C054CC02 , 4C054CC04 , 4C054DD01 , 4C054EE01 , 4C054FF26 , 4C064AA01 , 4C064AA27 , 4C064CC01 , 4C064DD01 , 4C064EE03 , 4C064FF02 , 4C064GG01 , 4C064HH05 , 4C069AA12 , 4C069BA01 , 4C069BC06 , 4C069CC18 , 4H006AA01 , 4H006AB76 , 4H006AB92

引用特許：

審査官引用 (7件)

感活性光線性又は感放射線性組成物、並びに、この組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-148310 出願人：富士フイルム株式会社
化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-037622 出願人：住友化学株式会社
塩、フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-001782 出願人：住友化学株式会社

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