特許
J-GLOBAL ID：201303018466953517
補助露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-049390
公開番号（公開出願番号）：特開2013-186191
出願日： 2012年03月06日
公開日（公表日）： 2013年09月19日
要約：
【課題】リソグラフィにおいて現像処理後のレジストパターンの膜厚または線幅の精度または面内均一性の大幅な向上を実現する。【解決手段】この補助露光装置(AE)10は、基板Gを一定の姿勢で一水平方向に搬送する平流し搬送部30と、基板G上のレジストに所定波長の紫外線(UV)を照射するUV照射ユニット32と、このUV照射ユニット32内の発光素子に発光用の駆動電流を供給する発光駆動部34と、UV照射ユニット32内の発光素子を設定温度に冷却する冷却機構36と、UV照射ユニット32による紫外線照射の照度を測定する照度測定部38と、装置内の各部を制御するための制御部40およびメモリ42とを有している。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
光リソグラフィにおいて、被処理基板上に塗布されたレジスト膜にマスクのパターンを転写する露光処理とは別に、前記基板の表面の前記レジスト膜に所定波長の紫外線を照射する補助露光装置であって、
前記紫外線光を発する1個または複数個の発光素子を設けた照射エリアを第1の方向に複数配列してなる紫外線照射ユニットと、
各々の前記照射エリア毎に前記発光素子に発光用の駆動電流を供給する発光駆動部と、
前記基板表面のレジスト膜を露光走査するように、前記基板に対して前記紫外線照射ユニットを前記第1の方向と交差する第2の方向に相対的に移動させる走査機構と、
各々の前記照射エリアについて、前記発光駆動部を通じて、当該照射エリアに対する光出力の指令値と前記基板上の対応する被照射位置の照度との関係を表わす指令値-照度特性を取得する照度特性取得部と、
前記露光走査中に、各々の前記照射エリアと対向する前記基板上の被照射位置の照度が目標値に一致または近似するように、各々の前記照射エリア毎に前記指令値-照度特性に基づいて前記発光駆動部を制御する照度制御部と、
各々の前記照射エリアについて、前記指令値-照度特性を取得する時とその後に前記露光走査を行う時とで、各々の前記照射エリアの温度を同一または近似する温度に制御する温度管理機構と
を有する補助露光装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F7/20 501
, H01L21/30 502A
, H01L21/30 516E
2H097AA20
, 2H097AB05
, 2H097BA10
, 2H097BB01
, 2H097CA12
, 5F146AA02
, 5F146DA02
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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