微細パターン形成用水溶性樹脂組成物およびこれを用いた微細パターンを形成する方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：中島淳 , 加藤和詳 , 西元勝一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-095394
公開番号（公開出願番号）：特開2013-133471
出願日： 2012年04月19日
公開日（公表日）： 2013年07月08日
要約：

【課題】半導体工程のフォトレジストのコンタクトホールパターンのサイズを効率よく減少することによって、微細なフォトレジストパターンを形成することのできる水溶性樹脂組成物を提供する。【解決手段】特定構造を有する水溶性重合体および第1水溶性溶媒を含み、コンタクトホールパターンが形成されているフォトレジスト膜上に塗布および熱処理することによって、前記コンタクトホールのサイズを減少させる水溶性樹脂組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

コンタクトパターンが形成されたフォトレジスト膜上にノルボルネン基を含むモノマーおよび末端の酸素の部位に互いに異なる作用基を有する2種の(メタ)アクリレート基含有モノマーを含む溶液を重合し形成された共重合体を塗布した後、熱処理することによって前記コンタクトホールのサイズを減少させることを特徴とする方法。

IPC (4件)：

C08F 232/04 , G03F 7/11 , G03F 7/40 , H01L 21/027

FI (5件)：

C08F232/04 , G03F7/11 501 , G03F7/40 511 , G03F7/40 , H01L21/30 570

Fターム (51件)：

2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096EA05 , 2H096EA23 , 2H096GA08 , 2H096HA05 , 2H096JA04 , 2H125AF17P , 2H125AF36P , 2H125AH17 , 2H125AJ14Y , 2H125AJ65Y , 2H125AJ69Y , 2H125AJ88Y , 2H125AM22N , 2H125AM25N , 2H125AM38N , 2H125AM43N , 2H125AM92N , 2H125AM94N , 2H125AM95N , 2H125AN11N , 2H125AN39P , 2H125AN67P , 2H125AP01N , 2H125BA01N , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125CD08N , 2H125CD09N , 2H125CD39 , 4J100AL08R , 4J100AL08T , 4J100AM15Q , 4J100AM21S , 4J100AR11P , 4J100BA03S , 4J100BA31S , 4J100BA31T , 4J100BC53R , 4J100CA03 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100FA19 , 4J100JA38 , 5F146LA18

引用特許：

審査官引用 (8件)

水溶性樹脂組成物およびこれを用いて微細パターンを形成する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-073283 出願人：コリアクンホペトロケミカルカンパニーリミテッド
ポジ型感光性組成物及びサーマルフローパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-261467 出願人：富士写真フイルム株式会社
パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-310712 出願人：松下電器産業株式会社

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