特許
J-GLOBAL ID：200903010269403455
パターン形成されたリターダの製造方法とパターン形成されたリターダ、および照明用光源
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-182987
公開番号（公開出願番号）：特開平11-084385
出願日： 1998年06月29日
公開日（公表日）： 1999年03月26日
要約：
【要約】【課題】 標準的な液晶装置の製造に適合する様式で、材料とホトリソグラフ技術とを用いるパターン形成されたリターダを製造する方法を提供する。【解決手段】 パターン形成されたリターダは、配向層を設ける工程と、該配向層を第1のラビング方向にラビングする工程と、該配向層の少なくとも1つの第1の領域をマスクを用いてマスクして、該配向層の少なくとも1つの第2の領域を露出させる工程と、該第1のラビング方向とは異なる第2のラビング方向に、該マスクを通して該少なくとも1つの第2の領域をラビングする工程と、該マスクを除去する工程と、光学軸が該配向層によって配向される、複屈折材料で形成される層を、該配向層上に設ける工程と、該複屈折材料で形成される層の該光学軸を固定する工程とを包含する方法によって、パターン形成されたリターダの製造方法によって製造される。
請求項（抜粋）：
配向層を設ける工程と、該配向層を第1のラビング方向にラビングする工程と、該配向層の少なくとも1つの第1の領域をマスクを用いてマスクして、該配向層の少なくとも1つの第2の領域を露出させる工程と、該第1のラビング方向とは異なる第2のラビング方向に、該マスクを通して該少なくとも1つの第2の領域をラビングする工程と、該マスクを除去する工程と、光学軸が該配向層によって配向される、複屈折材料で形成される層を、該配向層上に設ける工程と、該複屈折材料で形成される層の該光学軸を固定する工程とを包含する、パターン形成されたリターダの製造方法。
引用特許：
出願人引用 (17件)
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審査官引用 (18件)
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