特許
J-GLOBAL ID:201303059069914376
発光素子
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-127049
公開番号(公開出願番号):特開2013-201455
出願日: 2013年06月17日
公開日(公表日): 2013年10月03日
要約:
【課題】ツェナーダイオードを備える発光素子を提供する。【解決手段】この発光素子は、ツェナーダイオード領域及び発光ダイオード領域を有するP型シリコン基板を備える。第1のN型化合物半導体層が、前記P型シリコン基板のツェナーダイオード領域に接合され、前記P型シリコン基板と一緒にツェナーダイオードの特性を示す。また、第2のN型化合物半導体層が、前記P型シリコン基板の発光ダイオード領域上に位置する。前記第2のN型化合物半導体層は、前記第1のN型化合物半導体層から離隔する。一方、P型化合物半導体層が、前記第2のN型化合物半導体層の上部に位置し、前記第2のN型化合物半導体層と前記P型化合物半導体層との間に活性層が介在される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ツェナーダイオード領域及び発光ダイオード領域を有するP型シリコン基板と、
前記P型シリコン基板のツェナーダイオード領域に接合され、前記P型シリコン基板と協働してツェナーダイオードの特性を示す第1のN型化合物半導体層と、
前記P型シリコン基板の発光ダイオード領域上に位置し、前記第1のN型化合物半導体層から離隔し、前記第1のN型化合物半導体層の形成と同時に形成された第2のN型化合物半導体層と、
前記第2のN型化合物半導体層の上部に位置するP型化合物半導体層と、
前記第2のN型化合物半導体層と前記P型化合物半導体層との間に介在された活性層と、
を備えることを特徴とする発光素子。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (9件):
5F141AA23
, 5F141AA33
, 5F141AA42
, 5F141CA40
, 5F141CA71
, 5F141CA74
, 5F141CA88
, 5F141CA93
, 5F141CB33
引用特許:
審査官引用 (7件)
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半導体発光素子と保護素子との複合半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2005-014734
出願人:サンケン電気株式会社
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半導体結晶の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-240385
出願人:日立電線株式会社
-
半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-252477
出願人:新技術事業団
-
半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-003003
出願人:ローム株式会社
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透明電極膜
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-048065
出願人:ローム株式会社
-
窒化ガリウム系発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-206718
出願人:酒井士郎, ナイトライド・セミコンダクター株式会社
-
窒化物半導体発光素子
公報種別:再公表公報
出願番号:JP2005006174
出願人:日亜化学工業株式会社
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