特許
J-GLOBAL ID：201303064726082002
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-099999
公開番号（公開出願番号）：特開2002-296756
特許番号：特許第4737483号
出願日： 2001年03月30日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 透明基板上に、露光光を透過させる光透過部と、露光光の一部を透過させると同時に透過した光の位相を所定量シフトさせる位相シフター部を有するハーフトーン型位相シフトマスクを製造するために用いるハーフトーン型位相シフトマスクブランクであり、透明基板上に前記位相シフター部を形成するための位相シフター膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、
前記位相シフター膜が、透過率調整を主たる機能とする低透過率層と、位相シフト量の調整を主たる機能とする高透過率層の2層からなり、
前記高透過率層は、SiOxNyからなり、
前記低透過率層の消衰係数をK1、前記高透過率層の消衰係数をK2としたとき、波長140nm〜200nmの範囲から選ばれる露光波長λにおいて、K2<K1≦3.0の範囲であって、
前記低透過率層の膜厚をd1としたときに、前記露光波長λにおいて、0.001≦K1d1/λ≦0.500であり、
前記低透過率層は、Cr、Ta、Mo、V、Nb、Wから選ばれる少なくとも1種以上を主たる成分とする金属膜、金属窒化物膜、または金属酸窒化物膜であることを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク。
IPC (3件)：
G03F 1/08 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, G03F 7/20 502
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (2件)
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