特許
J-GLOBAL ID：201303069842783125

洗浄装置、剥離システム、洗浄方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体

発明者：
米田 洋

米田 洋 について

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眞鍋 英二

眞鍋 英二 について

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古閑 新二

古閑 新二 について

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酒井 貴英

酒井 貴英 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  萩原 康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-250379
公開番号（公開出願番号）：特開2013-105974
出願日： 2011年11月16日
公開日（公表日）： 2013年05月30日
要約：
【課題】環状のフレームの内側に配置されて、当該フレームとテープにより保持された状態の被処理基板の接合面を適切に洗浄する。【解決手段】洗浄装置13は、被処理ウェハWを保持して回転させるウェハ保持部130と、被処理ウェハWの接合面WJを覆う供給面141を備えた洗浄治具140とを有している。洗浄治具140には、接合面WJと供給面141との間の隙間142に接着剤Gの溶剤、溶剤のリンス液、及び不活性ガスを供給する気液供給部150と、接合面WJと供給面141との間の隙間142に供給された溶剤やリンス液(混合液)を吸引する吸引部170と、段部Aに気体を供給する気体を供給する気体供給部180とが設けられている。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
被処理基板と支持基板が接着剤で接合された重合基板を剥離した後、剥離された被処理基板が環状のフレームの内側に配置されて、且つ前記フレームの表面と被処理基板の非接合面に貼り付けられたテープにより保持された状態で、当該被処理基板の接合面を洗浄する洗浄装置であって、 被処理基板を保持して回転させる回転保持部と、 被処理基板の接合面を覆う供給面を備えた洗浄治具と、を有し、 前記洗浄治具には、前記接合面と前記供給面との間に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、前記接合面と前記供給面との間に供給された洗浄液を吸引する洗浄液吸引部とが設けられていることを特徴とする、洗浄装置。
IPC (1件)：
H01L 21/304
FI (3件)：
H01L21/304 643C ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 622P
Fターム (35件)：
5F057AA12 ,  5F057AA21 ,  5F057AA32 ,  5F057BA11 ,  5F057CA25 ,  5F057DA38 ,  5F057EC30 ,  5F057FA12 ,  5F057FA16 ,  5F057FA22 ,  5F057FA30 ,  5F057FA37 ,  5F057FA41 ,  5F057FA48 ,  5F057GA03 ,  5F057GA27 ,  5F157AA99 ,  5F157AB02 ,  5F157AB12 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157BB23 ,  5F157BB32 ,  5F157BB53 ,  5F157CB03 ,  5F157CB15 ,  5F157CB17 ,  5F157CE07 ,  5F157CF18 ,  5F157CF22 ,  5F157CF34 ,  5F157CF44 ,  5F157CF60 ,  5F157DB02
引用特許：
審査官引用 (9件)
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