特許
J-GLOBAL ID：201303078038290140
薄膜形成方法、薄膜形成装置、電気-機械変換素子、液体吐出ヘッド、およびインクジェット記録装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
舘野 千惠子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-017922
公開番号（公開出願番号）：特開2013-157509
出願日： 2012年01月31日
公開日（公表日）： 2013年08月15日
要約：
【課題】信頼性が高く、かつ迅速に電気-機械変換膜を形成することができる薄膜形成方法、薄膜形成装置、電気-機械変換素子、液体吐出ヘッド、およびインクジェット記録装置を提供する。【解決手段】基板30を、電気-機械変換膜の前駆体溶液90に浸漬する工程と、前記前駆体溶液90中で前記電極層15に対しレーザ光60eを全反射臨界角で入射して、前記電極層15上に前記前駆体溶液90を変化させた電気-機械変換膜10を形成する工程と、前記電気-機械変換膜10の結晶状態をX線回折装置80で評価する工程と、前記評価によって得られた評価値が目的値の範囲外である場合に、前記レーザ光60eの照射条件を変え、照射条件が変えられたレーザ光60eを前記電極層15と前記電気-機械変換膜10との界面に照射する工程と、を有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板に設けられた電極層上に電気-機械変換膜を形成する薄膜形成方法であり、
前記基板を、電気-機械変換膜の前駆体溶液に浸漬する工程と、
前記前駆体溶液中で前記電極層に対しレーザ光を全反射臨界角で入射して、前記電極層上に前記前駆体溶液を変化させた電気-機械変換膜を形成する工程と、
前記電気-機械変換膜の結晶状態を評価する工程と、
前記評価によって得られた評価値が目的値の範囲外である場合に、前記レーザ光の照射条件を変え、照射条件が変えられたレーザ光を前記電極層と前記電気-機械変換膜との界面に照射する工程と、
を有することを特徴とする薄膜形成方法。
IPC (4件)：
H01L 41/39
, H01L 41/18
, H01L 41/09
, H01L 41/187
H01L41/22 A
, H01L41/18 101Z
, H01L41/08 C
, H01L41/08 J
, H01L41/18 101D
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (1件)
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