金属酸化物膜の製造方法及び製造装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-101527
公開番号（公開出願番号）：特開2012-234927
出願日： 2011年04月28日
公開日（公表日）： 2012年11月29日
要約：

【課題】強誘電体等からなる金属酸化物膜を所望の位置に低温で低コストで形成する。【解決手段】金属酸化物膜を形成するための前駆体溶液に、金属酸化物膜が成膜される基板を浸す工程と、前記基板と前記前駆体溶液との界面に光を集光した状態で、前記光を走査しながら照射する工程と、を有し、前記前駆体溶液は前記光を透過するものであって、前記基板上に前記金属酸化物膜を形成することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

金属酸化物膜を形成するための前駆体溶液に、金属酸化物膜が成膜される基板を浸す工程と、前記基板と前記前駆体溶液との界面に光を集光した状態で、前記光を走査しながら照射する工程と、を有し、前記前駆体溶液は前記光を透過するものであって、前記基板上に前記金属酸化物膜を形成することを特徴とする金属酸化物膜の製造方法。

IPC (7件)：

H01L 21/316 , H01L 41/18 , H01L 41/24 , H01L 21/824 , H01L 27/105 , C01G 25/00 , C01B 13/32

FI (6件)：

H01L21/316 B , H01L41/18 101Z , H01L41/22 A , H01L27/10 444C , C01G25/00 , C01B13/32

Fターム (30件)：

4G042DA02 , 4G042DB10 , 4G042DB11 , 4G042DB15 , 4G042DB24 , 4G042DB35 , 4G042DC03 , 4G042DD02 , 4G042DD10 , 4G042DE08 , 4G042DE09 , 4G042DE14 , 4G048AA03 , 4G048AB02 , 4G048AC01 , 4G048AC02 , 4G048AD02 , 4G048AD08 , 4G048AE08 , 5F058BC03 , 5F058BF43 , 5F058BF46 , 5F058BH17 , 5F058BH20 , 5F083FR00 , 5F083GA27 , 5F083JA15 , 5F083JA17 , 5F083PR23 , 5F083PR33

引用特許：

出願人引用 (12件)

圧電体、圧電素子、および圧電アクチュエータ
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-065771 出願人：セイコーエプソン株式会社
強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-229787 出願人：富士フイルム株式会社
薄膜製造方法および薄膜素子
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-173007 出願人：株式会社リコー

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審査官引用 (12件)

圧電体、圧電素子、および圧電アクチュエータ
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-065771 出願人：セイコーエプソン株式会社
強誘電体膜とその製造方法、強誘電体素子、及び液体吐出装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-229787 出願人：富士フイルム株式会社
光無電解酸化法による金属酸化膜の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-230532 出願人：熊本大学長

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