特許
J-GLOBAL ID：201303081810879287

カーボンナノチューブ形成用CVD装置

発明者：
杉本 巖生

杉本 巖生 について

, 
▲高▼鍋 浩二

▲高▼鍋 浩二 について


出願人/特許権者：
日立造船株式会社

日立造船株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人森本国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-169695
公開番号（公開出願番号）：特開2013-032248
出願日： 2011年08月03日
公開日（公表日）： 2013年02月14日
要約：
【課題】基板の表面に連続的にカーボンナノチューブを形成し得るとともに原料ガスを基板の表面に均一に供給し得る熱CVD装置を提供する。【解決手段】加熱炉1の炉本体2内の一端側に基板Kを構成する薄板材が巻き付けられた巻出しロール16を、他端側にこの基板Kを巻き取る巻取りロール17をそれぞれ配置し、これら両ロール16,17同士の間に、基板Kを挿通し得る連通用開口部3aを有する区画壁3により所定寸法の平面視矩形状の加熱室13を形成し、この加熱室13内の基板Kの上方位置に加熱装置41を配置し、加熱室13の下部に原料ガスGを供給し得るガス供給口5を設け、このガス供給口5に胴部が円柱状で且つ上端部が半球状にされた多孔質材料より成るガス分散部材21を配置し、加熱室13内を所定の真空度に減圧し得る排気装置23を具備したものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
炉本体内に設けられた加熱室内に炭素を含む原料ガスを導くとともに原料ガスを加熱して当該加熱室に移動される基板の表面にカーボンナノチューブを形成し得る加熱炉を具備する熱CVD装置であって、 炉本体内の一端側に基板を構成する薄板材が巻き付けられた巻出しロールを配置するとともに、他端側にこの基板を巻き取る巻取りロールを配置し、 これら両ロール同士の間に、上記基板を挿通し得る開口部を有する区画壁により所定寸法の平面視矩形状の加熱室を形成するとともに、この加熱室内の基板の上方位置に加熱装置を配置し、 上記加熱室の下部に原料ガスを供給し得るガス供給口を設け、 このガス供給口に胴部が円柱状で且つ上端部が半球状にされた多孔質材料より成るガス分散部材を配置し、 上記加熱室内を所定の真空度に減圧し得る排気装置を具備したことを特徴とするカーボンナノチューブ形成用CVD装置。
IPC (1件)：
C01B 31/02
FI (1件)：
C01B31/02 101F
Fターム (16件)：
4G146AA11 ,  4G146AB06 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BB23 ,  4G146BC09 ,  4G146BC42 ,  4G146DA03 ,  4G146DA22 ,  4G146DA26 ,  4G146DA27 ,  4G146DA34 ,  4G146DA40 ,  4G146DA46 ,  4G146DA47 ,  4G146DA48
引用特許：
審査官引用 (10件)
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