感光性樹脂組成物、レリーフパターン形成材料、感光性膜、ポリイミド膜、硬化レリーフパターン、その製造方法、及び半導体装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：高松猛 , 尾澤俊之 , 長谷川博道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-068197
公開番号（公開出願番号）：特開2013-050696
出願日： 2012年03月23日
公開日（公表日）： 2013年03月14日
要約：

【課題】解像性及び感度に優れたリソグラフィー性能を有し、低温キュアにおいて、ウエハ反りを防止する硬化レリーフパターンを形成することができる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いるレリーフパターン形成材料、感光性膜、ポリイミド膜、硬化レリーフパターン、その製造方法、及び該硬化レリーフパターンを含む半導体装置の提供。【解決手段】(a)下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感光性樹脂組成物。上記一般式(1)中、R2は、2価の有機基を表す。複数のR2は互いに同一であっても異なっていてもよい。但し複数のR2のうち少なくとも1つは脂環基を有する2価の有機基である。R3は、各々独立に、水素原子又は有機基を表す。但し複数の-CO2R3のうち少なくとも1つは、酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる基である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(a)下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び (b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感光性樹脂組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , C08G 73/10 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 503A , G03F7/004 501 , C08G73/10 , H01L21/30 502R

Fターム (56件)：

2H125AF18P , 2H125AF19P , 2H125AF27P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF52P , 2H125AF53P , 2H125AH04 , 2H125AH05 , 2H125AH06 , 2H125AH07 , 2H125AH12 , 2H125AH13 , 2H125AH15 , 2H125AH16 , 2H125AH17 , 2H125AH18 , 2H125AH19 , 2H125AK15 , 2H125AM22P , 2H125AM66P , 2H125AM86P , 2H125AM99P , 2H125AN31P , 2H125AN42P , 2H125AN54P , 2H125AN60P , 2H125AN64P , 2H125AN65P , 2H125AN82P , 2H125AN84P , 2H125AN86P , 2H125BA01P , 2H125BA05P , 2H125BA11P , 2H125BA24P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125BA33P , 2H125CA12 , 2H125CB06 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 4J043QB31 , 4J043RA05 , 4J043SA06 , 4J043TA22 , 4J043UA022 , 4J043UA041 , 4J043UA132 , 4J043UA672 , 4J043UB402 , 4J043VA022 , 4J043VA062 , 4J043YB05 , 4J043YB17

引用特許：

審査官引用 (6件)

感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-217744 出願人：株式会社東芝
ポジ型感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-032577 出願人：協和発酵ケミカル株式会社
感光性樹脂組成物、パターン製造法及び半導体装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-037231 出願人：日立化成工業株式会社

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