特許
J-GLOBAL ID:201303087311489883
レベルセンサ、基板の高さマップを決定する方法、及びリソグラフィ装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-234536
公開番号(公開出願番号):特開2013-110398
出願日: 2012年10月24日
公開日(公表日): 2013年06月06日
要約:
【課題】基板表面の高さレベルを決定する際のより多くの融通性及び/又は効率的レベルセンサ技術を提供する。【解決手段】基板W表面の高さレベルを決定するように構成されたレベルセンサであって、基板W上の反射後に測定ビームを受光するように配置された検出ユニットを備え、検出ユニットは、各検出素子が測定エリア81、82、83、84の測定サブエリア8a上に反射した測定ビームの一部を受光するように配置された検出素子のアレイを備え、それぞれの検出素子によって受光された測定ビームの部分に基づいて測定信号を提供するように構成され、処理ユニットは、測定サブエリア8aでの選択された解像度に応じて、測定サブエリア8aの高さレベルを計算し、又は複数の測定サブエリア8aの組合せの高さレベルを計算するように構成された、レベルセンサを提供する。【選択図】図4
請求項(抜粋):
基板の表面の高さレベルを決定するレベルセンサであって、
前記基板の測定エリア上に測定ビームを投影する投影ユニットと、
前記基板上での反射後に前記測定ビームを受光する検出ユニットと、
前記反射した測定ビームに基づいて前記測定エリア内の高さレベルを計算する処理ユニットとを備え、
前記検出ユニットは、各検出素子が前記測定エリアの測定サブエリア上で反射した前記測定ビームの一部を受光する検出素子アレイを備え、該それぞれの検出素子によって受光された前記測定ビームの前記部分に基づいて測定信号を提供し、
前記処理ユニットは、前記測定サブエリアでの選択された解像度に応じて、関連付けられた検出素子の前記測定信号に基づいて前記測定サブエリアの高さレベルを計算し、又は複数の測定サブエリアの組合せに関連付けられた前記複数の検出素子の前記測定信号に基づいて前記測定エリア内の複数の測定サブエリアの組合せの高さレベルを計算する、レベルセンサ。
IPC (4件):
H01L 21/027
, G03F 7/207
, H01L 21/68
, G01B 11/00
FI (4件):
H01L21/30 526B
, G03F7/207
, H01L21/68 F
, G01B11/00 H
Fターム (39件):
2F065AA06
, 2F065AA47
, 2F065CC19
, 2F065DD03
, 2F065FF01
, 2F065FF04
, 2F065FF09
, 2F065FF41
, 2F065GG02
, 2F065HH06
, 2F065HH12
, 2F065JJ02
, 2F065JJ08
, 2F065JJ25
, 2F065LL04
, 2F065PP12
, 2F065QQ31
, 2H097BA01
, 2H097LA10
, 2H097LA11
, 5F131AA02
, 5F131BA13
, 5F131CA07
, 5F131EA02
, 5F131EA22
, 5F131KA16
, 5F131KA44
, 5F131KA55
, 5F131KA72
, 5F131KB12
, 5F131KB32
, 5F131KB42
, 5F131KB56
, 5F146DA05
, 5F146DA07
, 5F146DA14
, 5F146DB05
, 5F146DB10
, 5F146DC10
引用特許:
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