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J-GLOBAL ID:201402222812579570   整理番号:14A0682497

10nm技術世代マルチゲートFinFETデバイス・回路技術

Multigate FinFET Device and Circuit Technology for 10nm and Beyond
著者 (9件):
資料名:
巻: 114  号: 13(ICD2014 1-18)  ページ: 77-82  発行年: 2014年04月10日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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20nm技術世代以降の集積回路における最大の課題は,トランジスタ微細化に伴う待機時消費電力の増大と,顕在化する特性ばらつきを如何に抑え込むか,である。FinFETを代表とする立体チャネルマルチゲートトランジスタは,それら双方の課題を解決し得る素子として注目を浴びている。本稿では,10nm以降の技術世代での集積回路実現に向け開発された新規なFinFETデバイス技術と回路技術について論じる。(著者抄録)
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分類 (2件):
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トランジスタ  ,  半導体集積回路 
引用文献 (12件):
タイトルに関連する用語 (4件):
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